產品名稱(cheng):耶(ye)拿電(dian)感(gan)耦(ou)合(he)等離(li)子體(ti)質譜(pu)儀(yi)ICP-MS
產品型號:
更(geng)新時間:2020-08-07
產品特點(dian):耶(ye)拿電(dian)感(gan)耦(ou)合(he)等離(li)子體(ti)質譜(pu)儀(yi)ICP-MS1.推(tui)出90度離(li)子透(tou)鏡:2003年(nian)推(tui)出自(zi)己擁(yong)有技(ji)術(shu)。很(hen)大(da)程度消除基體(ti)、溶(rong)劑(ji)、光(guang)子(zi)等中性(xing)粒(li)子,汙染(ran)減少(shao),維(wei)護(hu)工(gong)作量大(da)幅(fu)度降低;同時,大(da)幅(fu)度提(ti)高信噪(zao)比(bi),擁(yong)有行業(ye)內Z高的靈敏(min)度;2. *個將碰(peng)撞(zhuang)反(fan)應區域從(cong)高真(zhen)空區移到(dao)錐口(kou):高效、易用(yong)、安(an)全(quan)、易(yi)維(wei)護(hu)高效:較傳(chuan)統(tong)技(ji)術(shu),動(dong)能(neng)大、碰(peng)撞(zhuang)反(fan)應快(kuai),采用H2和(he)He解(jie)決(jue)幾(ji)乎(hu)所有的多(duo)原(yuan)子(zi)幹擾(rao)問題,不需(xu)要其他如(ru)甲(jia)烷(wan)、等氣體(ti)。
產品詳細(xi)資料(liao):
耶拿(na)電(dian)感(gan)耦(ou)合(he)等離(li)子體(ti)質譜(pu)儀(yi)ICP-MS儀(yi)器(qi)特(te)點(dian):
易(yi)用:自(zi)動參(can)數(shu)優(you)化簡單(dan),不損(sun)壞(huai)機器(qi);傳(chuan)統(tong)技(ji)術(shu)是(shi)在(zai)高真(zhen)空下,碰(peng)撞(zhuang)反(fan)應氣設(she)置(zhi)不當,可能(neng)造(zao)成真(zhen)空泵的(de)損壞;
安(an)全(quan):H2作為常規(gui)的反(fan)應氣體(ti),是(shi)*的(de);耶(ye)拿ICPMS是采用氫(qing)氣發(fa)生器(qi)供H2,這(zhe)使(shi)得(de)實(shi)驗室(shi)更(geng)加安(an)全(quan)、放(fang)心(xin)。其他公(gong)司(si)都只能(neng)用氫(qing)氣鋼(gang)瓶(ping)
易(yi)於(yu)維(wei)護(hu):由於(yu)是(shi)將碰(peng)撞(zhuang)反(fan)應氣加到(dao)錐口(kou),它(ta)使(shi)得(de)維(wei)護(hu)也非常簡(jian)單,只(zhi)要(yao)拆(chai)下錐口(kou)來維(wei)護(hu)即可;而其他公(gong)司(si)的(de)維(wei)護(hu)都很(hen)麻煩(fan)
行業(ye)儀(yi)器(qi)儀(yi)器(qi)對(dui)比(bi)優(you)點
(1)節省(sheng)的(de)等離(li)子體(ti):獲得(de)穩定(ding)強(qiang)勁的等離(li)子體(ti)所消耗(hao)氬(ya)氣量(liang)僅為常規(gui)儀(yi)器(qi)的(de)壹(yi)半;
(2)的(de)iCRC集(ji)成(cheng)式(shi)碰(peng)撞(zhuang)反(fan)應池(chi):有效去(qu)除多(duo)原(yuan)子(zi)分子(zi)幹擾(rao),不損(sun)失(shi)其它(ta)幹擾(rao)元(yuan)素(su)靈敏(min)度的(de)前(qian)提(ti)下獲(huo)得(de)更(geng)好的碰(peng)撞(zhuang)反(fan)應效果(guo);氣體(ti)切換(huan)快(kuai)速,無(wu)需(xu)額外(wai)維(wei)護(hu);
(3)ReflexION離(li)子反(fan)射(she)技(ji)術(shu):3D聚(ju)焦(jiao)離(li)子反(fan)射(she)鏡獲(huo)得(de)的(de)靈敏(min)度,其靈(ling)敏(min)度達(da)到(dao)同(tong)類產品的5倍(bei)以(yi)上(shang);
(4)高解(jie)析(xi)四(si)極桿(gan):3MHz的掃描(miao)速度,可獲(huo)得(de)*的(de)質譜(pu)分離(li);檢測(ce)駐留時間低至(zhi)50μs;
(5)全(quan)數(shu)字脈沖(chong)技(ji)術(shu)檢(jian)測(ce)器(qi):ICP-MS領(ling)域中weiyi的(de)全(quan)數(shu)字檢測器(qi),線(xian)性(xing)範(fan)圍達(da)10個數(shu)量(liang)級(ji),無需(xu)頻(pin)繁的脈(mai)沖(chong)和(he)模(mo)擬雙模(mo)式(shi)交叉校(xiao)準(zhun),無需(xu)稀(xi)釋(shi)即可進(jin)行痕(hen)量(liang)到(dao)常(chang)量的元(yuan)素(su)分析(xi),使(shi)用壽命(ming)超(chao)長(chang);
(6)強(qiang)性(xing)能(neng)優異的(de)真(zhen)空系統(tong):冷(leng)開(kai)機5min即可達(da)到(dao)做(zuo)樣標(biao)準(zhun),真(zhen)空度可達(da)10-9τ;雙分子(zi)渦(wo)輪(lun)泵,壹(yi)般負(fu)載低於50%,使用(yong)壽命(ming)更(geng)長(chang)。
耶(ye)拿電(dian)感(gan)耦(ou)合(he)等離(li)子體(ti)質譜(pu)儀(yi)ICP-MS行業(ye)解(jie)決(jue)方(fang)案(an)
ICP-MS測(ce)定(ding)大氣顆(ke)粒(li)物(wu)中鉛(qian)的同(tong)位(wei)素比(bi)值(zhi)研(yan)究(jiu)
LC-ICP-MS系統(tong)測定(ding)大米中砷(shen)的(de)形態(tai)
ICP-MS法(fa)檢(jian)測(ce)尿(niao)液(ye)中的(de)痕(hen)量(liang)元(yuan)素(su)鈹(pi)
ICP-MS進(jin)行99.999%高純(chun)貴金屬金中痕(hen)量(liang)元(yuan)素(su)的測定(ding)
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