二手(shou)PerkinElmer光譜儀ICP：簡(jian)介以(yi)下(xia)

    PerkinElmer的電感(gan)耦(ou)合(he)等離子(zi)體(ti)發(fa)射(she)光譜儀（ ICP-OES ）主(zhu)要(yao)由進(jin)樣系(xi)統(tong)、射(she)頻（RF）發(fa)生(sheng)器(qi)、分光系(xi)統(tong)、檢測器(qi)和(he)軟件(jian)等五(wu)部(bu)分(fen)組成(cheng)。 
PerkinElmer的ICP-OES基本(ben)原(yuan)理：利用氬等離子(zi)體(ti)產生(sheng)的高溫使試(shi)樣*分解形成(cheng)激發(fa)態(tai)的原(yuan)子(zi)和(he)離子(zi)，由於(yu)激發(fa)態(tai)的原(yuan)子(zi)和(he)離子(zi)不穩(wen)定(ding)，外層電子(zi)會(hui)從激發(fa)態(tai)向(xiang)低(di)的能級躍(yue)遷，因(yin)此(ci)發(fa)射(she)出(chu)特(te)征(zheng)的譜線(xian)。通過(guo)光柵等分(fen)光後，利用檢測(ce)器檢(jian)測(ce)特(te)定(ding)波長(chang)的強度(du)，從而測定(ding)試(shi)樣中(zhong)待(dai)測元素的含量。 
PerkinElmer的ICP-OES可以(yi)分析(xi)元(yuan)素周(zhou)期表(biao)中(zhong)所有(you)金(jin)屬元(yuan)素(su)，檢出(chu)限在(zai)1ppb以下(xia)。同(tong)時可(ke)以分析(xi)絕(jue)大部(bu)分(fen)非(fei)金(jin)屬元(yuan)素(su)，例如(ru)As、Se、P、S、Si、Te等，檢(jian)出(chu)限低(di)於10ppb，如(ru)果(guo)配(pei)合(he)使用氫(qing)化物(wu)發(fa)生(sheng)器(qi)，這些(xie)非(fei)金(jin)屬的檢出(chu)限可以(yi)改(gai)善10倍(bei)以(yi)上(shang)。 
ICP-OES以其優(you)異(yi)的分析(xi)性(xing)能(neng)成(cheng)為各種(zhong)物料(liao)常規(gui)分(fen)析(xi)普(pu)遍(bian)采(cai)用的檢測(ce)手(shou)段(duan)，例如(ru)測定(ding)植物(wu)、動物(wu)體(ti)、人發(fa)、血(xue)液(ye)、水(shui)樣、飲料(liao)、土壤、肥(fei)料(liao)、化學(xue)試(shi)劑、金(jin)屬和(he)合金(jin)、巖石(shi)和(he)礦物等物(wu)料(liao)中(zhong)常量和(he)痕量金(jin)屬元(yuan)素(su)都(dou)有(you)許多報(bao)道(dao)。
ICP及(ji)進(jin)樣系(xi)統(tong) 

1， ICP矩及(ji)進(jin)樣系(xi)統(tong) 
Optima 8000在(zai)等離子(zi)體(ti)氣，輔助氣和(he)霧化氣氣路上(shang)采用的是(shi)zui精密(mi)準確的質(zhi)量流(liu)量計(ji)。其中(zhong)霧化氣流(liu)量精密(mi)度為0.01L/min，從而大大提高了(le)樣品進樣的穩定(ding)性(xing)。 
雙開(kai)門等離子(zi)室及(ji)組合(he)式設計(ji)霧室(shi)和(he)ICP矩，選配(pei)拆(chai)洗均(jun)十(shi)分方(fang)便。雙向(xiang)觀(guan)測(ce)為同(tong)時測(ce)定(ding)主(zhu)量，痕(hen)量元(yuan)素(su)選擇(ze)了*條件(jian)。 
3， *的雙觀(guan)測(ce)結構 
Optima8000DV采(cai)用*的雙觀(guan)測(ce)結構，可(ke)根(gen)據用戶需(xu)要(yao)方便(bian)地選擇(ze)徑向(xiang)、軸(zhou)向(xiang)進(jin)行(xing)測(ce)定(ding)。為同(tong)時進(jin)行主(zhu)量和(he)痕量元(yuan)素(su)分析(xi)提供(gong)了*條件(jian)。 

二(er)手(shou)PerkinElmer光譜儀ICP<儀(yi)器參數(shu)>

1.   光路形式：Czerny-Turner型(xing)  

2.   光室恒溫：(30±0.2)℃       

3.   光柵類(lei)型(xing)：離子(zi)刻蝕全(quan)息平面光柵  

4.   分辨(bian)率：不大於0.007nm   

5.   刻線(xian)密(mi)度：3600g/mm            

6.   高頻發(fa)生(sheng)器(qi)震蕩(dang)頻率：40.68MHz   功(gong)率穩(wen)定(ding)度：0.1%（長(chang)期25℃典型(xing)值(zhi)）  

7.   震蕩(dang)類(lei)型(xing)：自(zi)激式         

8.   進(jin)樣方式：蠕動(dong)泵(beng)進樣 配有(you)多種(zhong)霧室(shi)（旋流(liu)霧室、雙筒霧(wu)室(shi)和(he)耐(nai)室）

9.   霧化器(qi)：同(tong)心(xin)霧化器(qi)

10. 重復(fu)性(xing)：RSD ≤1.0% 

11. 穩(wen)定(ding)性(xing)：RSD ≤2.0%（2小時）

12. 冷卻(que)氣：10-20L/min

13. 輔助氣：0-1.5 L/min

14. 載(zai)氣：0.4-1L/min

15. 尺寸：1550mm×759mm×1340mm（長×寬×高）

16. 重量：240公(gong)斤(jin)