二手光譜(pu)ICP-OES：新(xin)技術 - 令(ling)人(ren)矚目(mu)的成(cheng)就(jiu)
eNeb 進樣(yang)系統(tong)
高效、穩定(ding)的進樣(yang)系統(tong)。通過不(bu)斷(duan)地(di)形(xing)成(cheng)大小(xiao)壹(yi)致的液(ye)滴(di)，eNeb 選(xuan)件(jian)可令 Optima 提(ti)供(gong)的穩(wen)定(ding)性(xing)和(he)*的檢(jian)出限(xian)，非(fei)常適(shi)用於(yu)環(huan)境和(he)藥物制劑(ji)實(shi)驗室(shi)。

平板等(deng)離子(zi)體(ti)技(ji)術
 RF 發(fa)生器采(cai)用免(mian)維(wei)護(hu)的等(deng)離(li)子體感應(ying)板，替代(dai)傳統(tong)的螺(luo)旋(xuan)負(fu)載(zai)線圈。無(wu)需(xu)冷(leng)卻(que)，氬(ya)耗(hao)降(jiang)低，操作成(cheng)本(ben)大大降(jiang)低。

PlasmaCam 觀測(ce)相(xiang)機
通(tong)過(guo)提(ti)供(gong)連續等(deng)離(li)子觀測(ce)，該彩(cai)色內(nei)置(zhi)相(xiang)機簡(jian)化方法建(jian)立過(guo)程(cheng)，使(shi)遠程(cheng)診(zhen)斷(duan)功(gong)能(neng)成(cheng)為(wei)可能，以zei大程(cheng)度(du)增加正常(chang)運行(xing)時間(jian)。 非(fei)常適(shi)用於(yu)有(you)關食品/產品安全(quan)和(he)地(di)球(qiu)化學(xue)的高輸出合約實(shi)驗室(shi)。

二手光譜(pu)ICP-OES：霧化器的維(wei)護(hu)
耐HF霧化室(shi)及(ji)霧化器：霧化效果(guo)的好(hao)壞(huai)直接(jie)影(ying)響(xiang)到(dao)樣(yang)品的檢(jian)測(ce)結(jie)果(guo)，這點大(da)家(jia)都(dou)很清楚，所以(yi)尤(you)其(qi)分析(xi)難(nan)溶(rong)物(wu)或者極(ji)易(yi)汙染的有(you)機物(wu)時，霧化器堵(du)塞是(shi)經(jing)常(chang)發(fa)生的事(shi)情(qing)，壹(yi)旦(dan)堵(du)塞，噴(pen)霧狀況不(bu)好(hao)或者直(zhi)接(jie)無(wu)噴(pen)霧，分析結(jie)果(guo)就(jiu)大打(da)折扣。
如遇(yu)堵(du)塞情(qing)況可以用頭(tou)發(fa)絲去(qu)將霧化器捅開，或者用及(ji)細小(xiao)的銅(tong)絲，註意千(qian)萬不(bu)可將霧化器損壞(huai)；另外(wai)如(ru)需(xu)清洗(xi)霧化室(shi)，可以將蓋(gai)擰開後(hou)能(neng)夠(gou)看到(dao)耐HF霧化室(shi)裏有(you)壹(yi)層(ceng)鍍(du)層(ceng)，這層(ceng)金屬(shu)鍍(du)層(ceng)千(qian)萬不(bu)可用刷(shua)子(zi)之(zhi)類的刷(shua)，壹(yi)旦(dan)損壞(huai)，這個霧化室(shi)就(jiu)廢掉(diao)了。沒(mei)有(you)其(qi)他辦法，只能是(shi)通過(guo)配(pei)制(zhi)酸(suan)洗(xi)液(ye)慢(man)慢(man)進樣(yang)清洗(xi)。
主(zhu)機灰(hui)塵(chen)清理
ICP是靈(ling)敏(min)度高的儀(yi)器(qi)，壹般的選(xuan)址都(dou)是遠(yuan)離(li)灰(hui)塵(chen)，單獨(du)隔離，潔凈，安全的地(di)方(fang)；智能(neng)化的大(da)型儀(yi)器(qi)就(jiu)應(ying)該特(te)殊(shu)對待，既然(ran)肯花(hua)上百(bai)萬(wan)來(lai)購(gou)買，那麽就(jiu)不(bu)要(yao)吝(lin)惜(xi)幾萬塊(kuai)錢給它找壹個合適(shi)的家(jia)；即(ji)使(shi)在較(jiao)為(wei)潔凈的環(huan)境下(xia)工(gong)作，儀(yi)器也(ye)會難免有(you)灰(hui)塵(chen)進入(ru)，由於(yu)長期的靜(jing)電(dian)，儀器(qi)殼(ke)體和(he)儀器底部都(dou)會有(you)灰(hui)塵(chen)；當(dang)灰(hui)塵(chen)積累(lei)到(dao)壹(yi)定程(cheng)度(du)時，不(bu)僅(jin)影響(xiang)儀器的外(wai)觀，還(hai)會造(zao)成(cheng)零(ling)部件的接(jie)觸不(bu)良(liang)從(cong)而影(ying)響(xiang)儀器的正(zheng)常(chang)使(shi)用，另(ling)外(wai)，位(wei)於(yu)儀器等(deng)離(li)子體屏(ping)蔽室(shi)左(zuo)上方(fang)的光室(shi)石英窗(chuang)口(kou)長時間(jian)暴露在(zai)外界氣氛(fen)中(zhong)也(ye)難免會(hui)有(you)玷汙，影響(xiang)儀器的分(fen)析(xi)靈(ling)敏(min)度；因此，清潔工(gong)作是(shi)儀器(qi)維護保(bao)養中壹項*的工(gong)作。
光室(shi)石英窗(chuang)口(kou)清潔
石英鏡(jing)片(pian)需要(yao)定期(qi)清洗(xi)，用酒(jiu)精棉(mian)球(qiu)清洗(xi)然(ran)後(hou)用鏡(jing)頭(tou)紙擦(ca)拭(shi)，沿(yan)著壹(yi)個方向擦(ca)拭(shi)。擦(ca)拭(shi)時，從(cong)石英鏡(jing)體(ti)中(zhong)心向邊(bian)緣做(zuo)圓周運動，擦(ca)凈後(hou)自(zi)然(ran)晾幹。