安(an)捷(jie)倫二手質(zhi)譜ICP-MS安(an)捷(jie)倫電(dian)感耦(ou)合(he)等離(li)子(zi)體質(zhi)譜儀

ICPMS 7500具有(you)適應(ying)多種樣品類(lei)型、應(ying)用(yong)範(fan)圍(wei)廣(guang)泛(fan)、性能(neng)穩定(ding)耐用(yong)的(de)特點，是大(da)多數(shu)常(chang)規實驗室(shi)和(he)分析(xi)大(da)批(pi)量(liang)樣品的(de)商業(ye)實驗室(shi)的(de)上(shang)佳(jia)選(xuan)擇。ICPMS 7500 則是(shi)專(zhuan)為半(ban)導體行(xing)業(ye)應(ying)用(yong)而(er)設計，具有(you)半(ban)導體針對性(xing)的(de)強大(da)功能(neng)。這(zhe)兩(liang)種(zhong)型(xing)號都(dou)具有(you)性(xing)能(neng)和(he)易於(yu)使用(yong)的(de)優(you)點，即使您面(mian)對的(de)是棘(ji)手的(de)樣品基(ji)體，它(ta)們(men)都(dou)能(neng)為您(nin)獲取值(zhi)得信(xin)賴的(de)分析(xi)結(jie)果(guo)。

7500系列ICP-MS不(bu)但(dan)配置了(le)新的(de)軟件(jian)平(ping)臺(tai)，而(er)且(qie)在(zai)儀器(qi)硬件方(fang)面(mian)也(ye)進(jin)行(xing)了(le)革新設計，包括全新(xin)數(shu)字(zi)控(kong)制(zhi)式(shi)射頻(pin)匹(pi)配的(de)RF發生(sheng)器(qi)和(he)第(di)三(san)代(dai)八(ba)極桿碰(peng)撞(zhuang)/反(fan)應(ying)池系(xi)統(ORS3)。安(an)捷(jie)倫 ICP-MS  7500憑(ping)借第(di)三代碰(peng)撞/ 反(fan)應(ying)池(ORS3) 為(wei)復雜(za)高基(ji)體樣品的(de)分析(xi)提(ti)供(gong)了(le)準確(que)性，它(ta)重(zhong)新(xin)定(ding)義了(le)碰撞/反(fan)應(ying)池：僅(jin)使用(yong)氦(hai)氣(qi)碰(peng)撞(zhuang)即可消(xiao)除(chu)所有(you)可(ke)能(neng)的(de)質(zhi)譜幹擾！

安(an)捷(jie)倫二手質(zhi)譜ICP-MS參數(shu)：

1. 靈(ling)敏(min)度(du)： 
低質(zhi)量數(shu) Li(7): ³ 50 Mcps/ppm； 
中(zhong)質(zhi)量數(shu) Y(89): ³ 160 Mcps/ppm（7700x)； 240 Mcps/ppm(7700s) ；
高質(zhi)量數(shu) Tl(205): ³ 80 Mcps/ppm(7700x)； 120 Mcps/ppm(7700s)；
根(gen)據(ju)用(yong)戶(hu)特(te)殊(shu)需求(qiu)，可提供(gong)超高靈(ling)敏(min)度(du)功能(neng) 
2. 檢測限(xian)： 
低質(zhi)量數(shu) Be(9): £ 0.5 ppt； 
中(zhong)質(zhi)量數(shu) In(115): £ 0.1 ppt 
高質(zhi)量數(shu) Bi(209): £ 0.1 ppt 
3. 氧化(hua)物幹(gan)擾: CeO+/Ce+:£ 1.5 %(7700x)；  3.0 %(7700s)；
4. 雙(shuang)電荷(he)幹(gan)擾: Ce2+/Ce+:£ 3.0 % 
5. 同(tong)位(wei)素(su)比精(jing)度(du): RSD(107Ag/109Ag) £0.1% 
6. 質(zhi)譜範圍：2 - 260 amu； 
7 豐度(du)靈敏(min)度(du) ：
低質(zhi)量端(duan): £ 5 x 10-7 
高質(zhi)量端(duan): £ 1 x 10-7 

特(te)征去(qu)除(chu)幹(gan)擾(rao)的(de) ORS 技(ji)術
用(yong)於(yu)提高研(yan)究/物種(zhong)形成應(ying)用(yong)所(suo)需的(de)靈敏(min)度(du)的(de)軸上(shang)反(fan)應(ying)池
使用(yong)簡單的(de)氦氣(qi)和(he)氫氣(qi)消除對砷(shen)、硒(xi)、鉻、釩(fan)和(he)鐵等關(guan)鍵元(yuan)素(su)的(de)多原子(zi)幹擾
無(wu)需矩陣匹(pi)配、元(yuan)素(su)特定(ding)優(you)化(hua)或(huo)幹擾方(fang)程即可消(xiao)除(chu)幹擾
高透射離(li)子(zi)透鏡（離(li)軸離(li)子(zi)透鏡）——提高靈(ling)敏(min)度(du)和(he)基(ji)質(zhi)耐受(shou)性
易於(yu)設置和(he)用(yong)於(yu)復雜(za)的(de)、通常(chang)未(wei)知(zhi)的(de)樣品基(ji)質(zhi)的(de)常(chang)規痕量(liang)分析(xi) - 保(bao)留(liu) ICP-MS 作(zuo)為(wei)多元(yuan)素(su)測量技(ji)術的(de)全部功能(neng)
在同(tong)壹分析(xi)運行(xing)中(zhong)，動態(tai)範圍(wei)從砷和(he)硒(xi)的(de)低 ppt 到(dao)鈉(na)的(de) 1000 ppm，從而(er)無(wu)需額外(wai)的(de)分析(xi)技(ji)術，例如 ICP-OES、GFAAS 和(he)冷(leng)蒸(zheng)氣(qi)。
標(biao)準模式（無(wu)池氣(qi)體）也(ye)可用(yong)於(yu)*靈活的(de)操作(zuo)
為(wei)高基(ji)質(zhi)應(ying)用(yong)優(you)化(hua)的(de)進(jin)樣系統(tong)