二(er)手(shou) PE  ICP-8300DV光譜(pu)儀(yi)平臺主(zhu)要面(mian)向(xiang)環境、食(shi)品、藥物、產(chan)品(pin)安全和化(hua)學(xue)分(fen)析(xi)領(ling)域(yu)，可幫助用戶(hu)提(ti)高操作(zuo)性(xing)能，降(jiang)低運(yun)行(xing)成本(ben)。ICP-OES是壹種(zhong)用於確定(ding)各類樣(yang)品(pin)的(de)元素(su)構(gou)成的(de)技(ji)術，具(ju)有速度(du)快、靈(ling)敏(min)度(du)高的(de)特(te)點。

　　主(zhu)要用(yong)途： 可用於(yu)地(di)質、環保、化(hua)工、生物、醫藥、食品(pin)、冶金(jin)、農(nong)業等方面(mian)樣(yang)品中元素(su)的(de)定(ding)性(xing)、定(ding)量(liang)分(fen)析(xi)。

　　檢測(ce)範圍：

　　1.檢測(ce)範圍：可以測(ce)定(ding)全部(bu)的(de)金(jin)屬(shu)元素(su)及(ji)部(bu)分(fen)非(fei)金(jin)屬(shu)元素(su)

　　2.波(bo)長範圍：160-800nm波(bo)長連(lian)續覆(fu)蓋(gai)，無斷點

　　3.檢出(chu)限：多(duo)數(shu)元素(su)能(neng)達到0.00xppm級(ji)

　　Optima8x00系列(lie)不但(dan)使用(yong)方(fang)便(bian)，還(hai)具有(you)通(tong)量(liang)和檢出(chu)限，可幫助測試實(shi)驗(yan)室提(ti)高生產(chan)效(xiao)率(lv)，獲得(de)最(zui)大(da)收益(yi)。Optima8x00系列(lie)專(zhuan)門(men)針對客戶(hu)需(xu)求和實(shi)際(ji)應(ying)用(yong)開(kai)發，多(duo)種(zhong)新增功能(neng)有(you)助於實驗(yan)室降(jiang)低每(mei)次分析(xi)的(de)成本(ben)，同(tong)時更加(jia)輕(qing)松地(di)滿足不斷(duan)變(bian)化的(de)法規(gui)要(yao)求。

　　新(xin)型射頻(pin)(RF)發(fa)生器技術(shu)將大(da)大(da)降(jiang)低氬(ya)氣(qi)消耗(hao)量(liang)，從(cong)而降(jiang)低擁(yong)有(you)成本(ben)，增(zeng)加(jia)效(xiao)率(lv)。創(chuang)新(xin)的(de)電(dian)子樣(yang)品(pin)引入(ru)系統(tong)靈(ling)敏(min)、穩定(ding)性(xing)高，有助於應(ying)對環境和制(zhi)藥市場(chang)不斷(duan)提(ti)高的(de)法規(gui)要(yao)求。

利(li)用(yong) PerkinElmer平板等離子體(ti)技(ji)術，氬(ya)氣(qi)消耗(hao)只(zhi)有螺(luo)旋負(fu)載(zai)線(xian)圈系統(tong)的(de)壹半(ban)，即可形(xing)成同(tong)樣(yang)強(qiang)健(jian)、同樣(yang)耐高鹽基(ji)體(ti)的(de)等離子體(ti)。這(zhe)種(zhong)全新(xin)的(de)射頻(pin)發(fa)生方(fang)式，可使射頻(pin)發(fa)生器免維(wei)護(hu)，從(cong)而(er)*大(da)程(cheng)度(du)上(shang)降(jiang)低操作(zuo)成本(ben)，同(tong)時不影(ying)響(xiang)性(xing)能。平板等離子體(ti)技(ji)術在任意(yi)RF功率(lv)下(xia)只(zhi)需 8 公(gong)升(sheng)/分鐘(zhong)的(de)等離子體(ti)氣(qi)流量(liang)。

使用(yong) eNeb 樣(yang)品(pin)導(dao)入(ru)系統(tong)可實現(xian) 2 到 4 倍(bei)的(de)更(geng)佳檢出(chu)限

使用(yong)革(ge)新(xin)的(de) eNeb（電(dian)子噴(pen)霧器）系統(tong)，樣品(pin)可更有(you)效(xiao)、更高效地(di)導入(ru) Optima 中。基(ji)於精密(mi)制(zhi)造的(de)惰(duo)性(xing)噴(pen)霧頭，eNeb 可形(xing)成直徑(jing)不超(chao)過(guo) 6 微(wei)米的(de)大(da)小(xiao)壹致(zhi)的(de)液(ye)滴。這(zhe)些(xie)大(da)小(xiao)壹致(zhi)的(de)小(xiao)液滴可更快速地(di)幹燥(zao)、霧(wu)化(hua)和電(dian)離，達(da)到的(de)檢出(chu)限比(bi)使用(yong)其他(ta)樣(yang)品(pin)導(dao)入(ru)系統(tong)可達到(dao)的(de)檢出(chu)限好(hao) 2 到(dao) 4 倍(bei)。

eNeb 的(de)噴(pen)霧頭采(cai)用堅(jian)固(gu)耐用的(de)惰(duo)性(xing)聚合(he)物(wu)制(zhi)成，提(ti)供(gong)良(liang)好的(de)基(ji)體相(xiang)容性(xing)、耐酸性(xing)和精(jing)確(que)性(xing)，是所(suo)有樣(yang)品類型(xing)（包括(kuo)含有高鹽的(de)樣(yang)品類(lei)型）的(de)理想(xiang)選擇。

      二(er)手 PE  ICP-8300DV光譜(pu)儀(yi)等離子體(ti)發(fa)射光譜(pu)儀(yi)  Optima8x00平臺的(de)主(zhu)要特(te)點包(bao)括(kuo)：

　　 eNeb™樣品引入(ru)：生成包(bao)含(han)均勻(yun)小(xiao)液滴的(de)連(lian)續流，幫(bang)助Optima提(ti)供(gong)環境和制(zhi)藥實驗(yan)室所需(xu)的(de)儀(yi)器穩定(ding)性(xing)和檢出(chu)限。

　　FlatPlate™等離子技(ji)術(shu)：RF發生(sheng)器技術(shu)采(cai)用免(mian)維(wei)護(hu)的(de)等離子感應(ying)盤，取代(dai)了傳(chuan)統(tong)的(de)螺(luo)旋加(jia)感線(xian)圈。由於(yu)無需冷卻、減(jian)少(shao)了氬氣(qi)的(de)消耗(hao)量(liang)，運(yun)行(xing)成本(ben)也大(da)大(da)降(jiang)低。

　　PlasmaCam™查(zha)看攝像(xiang)頭：此集(ji)成的(de)攝像(xiang)頭可對等離子體(ti)進(jin)行(xing)連(lian)續查看，不但(dan)簡(jian)化(hua)了方法開(kai)發，而(er)且盡(jin)可能地(di)延(yan)長了遠程診(zhen)斷功能(neng)的(de)正(zheng)常(chang)運(yun)行(xing)時間(jian)。它是食(shi)品/產(chan)品(pin)安全/化(hua)學領(ling)域(yu)高通(tong)量(liang)合(he)約(yue)實驗(yan)室的(de)理想(xiang)之選(xuan)。

二手(shou)ICP-OES 等離子體(ti)發(fa)射光譜(pu)儀(yi)使用(yong)註(zhu)意(yi)事項(xiang) ：

      1、二手(shou)ICP-OES Optima 8300等離子體(ti)發(fa)射光譜(pu)儀(yi)開(kai)機(ji)測定(ding)前要(yao)標(biao)好(hao)各項(xiang)準備(bei)工作(zuo)，儀(yi)器不要(yao)隨(sui)便開(kai)停，儀(yi)器頻繁(fan)開(kai)啟(qi)容易(yi)造成損(sun)壞(huai)，因(yin)為(wei)儀器在每(mei)次開(kai)啟(qi)的(de)時(shi)候，瞬時(shi)電(dian)流大(da)大(da)高於運(yun)行(xing)正常(chang)時(shi)的(de)電(dian)流，瞬時(shi)的(de)脈沖沖擊，容易(yi)造成功(gong)率(lv)管(guan)燈絲(si)斷絲(si)，容易(yi)短路(lu)及過(guo)早(zao)老化(hua)等，因(yin)此(ci)使用(yong)中(zhong)要(yao)倍(bei)加(jia)註(zhu)意(yi)，壹旦(dan)開(kai)機(ji)就把(ba)要做(zuo)的(de)事(shi)做完(wan)，不要(yao)中(zhong)途關停機(ji)。

　　2、平時沒有樣品可測時(shi)，最(zui)好(hao)保證(zheng)每(mei)周開(kai)壹次機(ji)，運行(xing)半個小(xiao)時到壹個(ge)小(xiao)時。如(ru)壹年(nian)甚(shen)至更(geng)長時(shi)間(jian)不開(kai)機(ji)，基本(ben)上(shang)儀(yi)器就得(de)大(da)修。長時(shi)間(jian)沒開(kai)機(ji)，開(kai)機(ji)前壹定(ding)要檢查(zha)氣(qi)、電(dian)等是否(fou)符(fu)合(he)相(xiang)關條(tiao)件(jian)。

　　3、每(mei)次作(zuo)完(wan)實驗(yan)後(hou)，壹定(ding)要把(ba)樣(yang)品(pin)、標(biao)準等溶液(ye)遠(yuan)離儀器，減(jian)少(shao)溶液(ye)揮發(fa)對儀器的(de)腐(fu)蝕(shi)。

　　4、使用(yong)循(xun)環水冷(leng)的(de)等離子體(ti)發(fa)射光譜(pu)儀(yi)，壹定(ding)要用(yong)蒸餾水，防(fang)止(zhi)儀(yi)器結垢(gou)。