全(quan)譜等(deng)離子(zi)體(ti)發(fa)射(she)光譜儀(yi)ICP-9000?概(gai)述(shu):  

  全(quan)譜等(deng)離子(zi)體(ti)發(fa)射(she)光譜儀(yi)ICP-9000是同類型直(zhi)讀光(guang)譜ICP中(zhong)*次使(shi)用了(le)真空(kong)光(guang)室,同時還(hai)無(wu)需使(shi)用高純(chun)度氣(qi)體(ti)進(jin)行(xing)吹(chui)掃(sao),可以(yi)大大(da)地(di)降低了(le)企(qi)業運行(xing)成本(ben)。搭(da)載(zai)的(de)小炬管,也可以(yi)降低氬(ya)氣(qi)的(de)消耗(hao),與(yu)標(biao)準(zhun)炬管相(xiang)比(bi)可以(yi)降低壹(yi)半的(de)標準(zhun),同時小炬管的(de)靈(ling)敏(min)度(du)與(yu)標(biao)準(zhun)炬管功(gong)能(neng)相等(deng)。

    -9000作(zuo)為(wei)精(jing)密(mi)儀(yi)器(qi)分(fen)析(xi)設備(bei)它的(de)應用(yong)範(fan)圍非常很(hen)廣。它的(de)特點主要(yao)特點就(jiu)是在(zai)檢測(ce)樣(yang)品(pin)時,檢測(ce)下線(xian)可以(yi)達(da)到ppb級別,並且(qie)可以(yi)批量處理(li)5-6個數量級的(de)多(duo)種(zhong)元(yuan)素(su)。

島津等(deng)離子(zi)體(ti)發(fa)射(she)光譜儀(yi)規格:

尺(chi)寸(cun):1350(W) x 760(D) x 740(H) mm

凈 重:  約(yue)270公斤(jin)

島津等(deng)離子(zi)體(ti)發(fa)射(she)光譜儀(yi)安(an)裝(zhuang)必要(yao)條件:

1.安(an)裝(zhuang)空(kong)間(jian)環(huan)境

實驗室溫度(du)：18℃到28℃
實驗室濕度(du)：20%到70%
同時需保(bao)持(chi)實驗室的(de)灰塵(chen)的(de)幹(gan)凈

2.電源

主機(ji)：單(dan)相(xiang)200/220/230/240V 10%（電壓(ya)zui大(da)250V）
自動進樣(yang)器(qi)：ASC-6100F：單(dan)相(xiang)100-240V 10% 50/60Hz 1A（選購(gou)）
超聲(sheng)波霧化(hua)器UAG-1：單(dan)相(xiang)100V 10% 50/60Hz 10A（備(bei)用）
氫化(hua)物(wu)發(fa)生器：HVG-ICP: Single-phase 100V 10% 50/60Hz 2A (選購(gou))
以(yi)上(shang)所有(you)的(de)電源必須是三(san)孔插(cha),同時需要(yao)接入(ru)30歐(ou)姆地(di)線(xian).
使用水循(xun)環(huan)需做(zuo)另(ling)外(wai)的(de)檢查(zha).

4.氣(qi)體(ti)供(gong)應

必須使(shi)用(yong)99.95%的(de)氬(ya)氣(qi)或者純(chun)度更高，氬(ya)氣(qi)供(gong)應氣(qi)壓(ya)是45010 kPa，約(yue)7立(li)方米的(de)氣(qi)瓶(ping)，每8小(xiao)時的(de)運行(xing)需要(yao)。氬(ya)氣(qi)分(fen)析(xi)消耗(hao)率(lv)為0.74立(li)方米/小時的(de)標準(zhun)配置(zhi).

5.冷卻水

等(deng)離子(zi)體(ti)冷卻水：水(shui)溫：5~30度(du)，流(liu)速(su)，1 L/分(fen)鐘或更高的(de)CCD檢測(ce)器冷卻水：可使(shi)用(yong)利用(yong)島津推(tui)薦(jian)的(de)冷卻器：備(bei)註(zhu)：UAG-1需要(yao)單(dan)獨的(de)冷卻水供(gong)應；冷卻水循(xun)環(huan)器(qi)可用(yong)於(yu)等(deng)離子(zi)體(ti)和(he)UAG-1.

6.排(pai)氣(qi)管

等(deng)離子(zi)體(ti)及射(she)頻(pin)電源從(cong)等(deng)離子(zi)中(zhong)排(pai)出(chu)的(de)氣(qi)體(ti)主要(yao)是氬(ya)氣(qi)，盡(jin)管如(ru)此(ci)，安(an)裝(zhuang)排(pai)氣(qi)管依(yi)然十分必要(yao)，因為(wei)氣(qi)體(ti)中(zhong)可能(neng)含(han)有金(jin)屬蒸(zheng)汽(qi)和(he)溶劑

直(zhi)讀光(guang)譜的(de)廣泛應用(yong)，人們(men)對(dui)縮短(duan)分(fen)析(xi)時間和(he)改(gai)善復雜基體(ti)樣(yang)品(pin)檢測(ce)能(neng)力(li)的(de)需求(qiu)日益增(zeng)加(jia)。為此(ci)，我(wo)們(men)使用的(de)產(chan)品(pin)型號中(zhong)，除了(le)可以(yi)使用(yong)半導體(ti)檢測(ce)器的(de)全(quan)譜直(zhi)讀型以(yi)縮短(duan)分(fen)析(xi)時間，也有(you)高分辨(bian)順序(xu)掃(sao)描型產(chan)品(pin)改善檢出(chu)限(xian)。