產(chan)品名稱(cheng)：二(er)手(shou)icp-ms
產(chan)品型(xing)號：
更(geng)新時(shi)間(jian)：2021-03-16
產品特點：二(er)手(shou)icp-ms可(ke)即刻運(yun)行的(de) Agilent ICP-MS 結合成熟、穩定(ding)的(de)硬(ying)件(jian)配(pei)置、自(zi)動優(you)化(hua)工(gong)具與(yu)預設方(fang)法(fa)簡(jian)化常規(gui)分(fen)析(xi)。硬(ying)件(jian)具有高(gao)基(ji)體(ti)耐(nai)受(shou)能力、寬動態(tai)範圍並(bing)能(neng)對多(duo)原(yuan)子(zi)幹(gan)擾(rao)進(jin)行(xing)有效控制(zhi)，可(ke)消(xiao)除(chu)復雜多(duo)變(bian)的(de)樣(yang)品基體(ti)帶(dai)來(lai)的(de)不(bu)確定性。ICP-MS 極易設置和使(shi)用，因(yin)此您(nin)可(ke)以快速(su)獲得(de)多(duo)種(zhong)樣品類型(xing)的可(ke)靠結(jie)果。
產品詳細資(zi)料：
二(er)手(shou)icp-ms產(chan)品特性：
● 快速(su)提高(gao)常規(gui)金(jin)屬分(fen)析(xi)效率(lv) — ICP-MS MassHunter 軟(ruan)件(jian)包(bao)含預定義設置的(de)可(ke)簡便加(jia)載(zai)和運(yun)行的(de)預設方(fang)法(fa)，預定義設置涉及從(cong)等(deng)離(li)子(zi)體(ti)條(tiao)件(jian)到(dao)分(fen)析(xi)物(wu)積(ji)分(fen)時(shi)間(jian)及內標(biao)。對於新(xin)方(fang)法(fa)，方(fang)法(fa)向(xiang)導將根(gen)據樣品類型(xing)和應用建(jian)立方法(fa)。了(le)解關於飲(yin)用(yong)水、環(huan)境廢(fei)棄(qi)物(wu)和制(zhi)藥(yao)產品解決(jue)方案中元(yuan)素雜質的更(geng)多(duo)信(xin)息(xi)。
● 減少(shao)樣品前處理(li) — 7800 ICP-MS 標(biao)配*的(de)耐(nai)高(gao)鹽進(jin)樣(yang) (HMI) 技(ji)術，無(wu)需(xu)稀釋即(ji)可(ke)分(fen)析(xi)總溶解固(gu)體(ti) (TDS) 含量(liang)高(gao)達 3% 的樣品，減少(shao)了樣品前處理(li)並(bing)節省了(le)時(shi)間(jian)。
● 大限(xian)度減小(xiao)信號(hao)抑(yi)制(zhi) — HMI 能減少(shao)信號抑(yi)制(zhi)，因(yin)此可(ke)以準(zhun)確測定高(gao)基體(ti)樣品而無(wu)需(xu)標樣的基(ji)體(ti)匹(pi)配。
● 有效去除幹擾(rao)，確保數據準(zhun)確性 — 氦(hai)氣(qi) (He) 碰撞模(mo)式(shi)可(ke)在同壹(yi)套質譜條(tiao)件(jian)下(xia)去除(chu)所(suo)有多(duo)原(yuan)子(zi)離(li)子(zi)幹(gan)擾(rao)，簡(jian)化(hua)了(le)方(fang)法(fa)開發(fa)與(yu)日常操作(zuo)。He 模(mo)式(shi)無需(xu)基體(ti)特異性或(huo)分(fen)析(xi)物(wu)特(te)異性反(fan)應池條(tiao)件(jian)。
● 在壹(yi)次(ci)運(yun)行中(zhong)同時(shi)分(fen)析(xi)常量(liang)和痕量(liang)元(yuan)素 — 寬動態(tai)範圍正交檢(jian)測器(qi)系(xi)統 (ODS) 可(ke)在壹(yi)次(ci)運(yun)行中(zhong)實現常量(liang)元(yuan)素（數百或(huo)數千(qian) ppm）與(yu)痕量(liang)元(yuan)素（ppt 或(huo)亞 ppt 級）的(de)直接分(fen)析(xi)。較高(gao)的上(shang)限(xian)濃度可(ke)減少(shao)由超(chao)量程(cheng)結(jie)果(guo)造(zao)成的(de)樣(yang)品再運(yun)行。
● 提(ti)高通量(liang)和分(fen)析(xi)效率(lv) — 可(ke)選(xuan)的集(ji)成式(shi)進(jin)樣(yang)系統 (ISIS 3) 和 SPS 4 自(zi)動進(jin)樣(yang)器可(ke)在不影響(xiang)數據質量的(de)前提下(xia)降(jiang)低每個(ge)樣品的分(fen)析(xi)成本。
低質量數 Li(7): 50 Mcps/ppm；
中質量數 Y(89): 60 Mcps/ppm（7700x)； 240 Mcps/ppm(7700s) ；
(高質量數 Tl(205): 80 Mcps/ppm(7700x)； 120 Mcps/ppm(7700s)；
根據用戶(hu)特(te)殊需(xu)求，如(ru)激光(guang)、核(he)工(gong)業、半導體(ti)材料等(deng)應用，可(ke)提供(gong)超(chao)高靈(ling)敏(min)度功(gong)能
2. 檢(jian)測(ce)限(xian)：
低質量數 Be(9): 0.5 ppt；
中質量數 In(115): 0.1 ppt
高質量數 Bi(209): 0.1 ppt
3. 氧化物(wu)幹(gan)擾(rao): CeO+/Ce+:1.5 %(7700x)； 3.0 %(7700s)；
4. 雙(shuang)電荷(he)幹(gan)擾(rao): Ce2+/Ce+:3.0 %
5. 同位素比(bi)精度: RSD(107Ag/109Ag) 0.1%
6. 質譜範圍：2 - 260 amu；
7 豐(feng)度靈敏(min)度
低質量端: 5 x 10-7
高(gao)質量端: 1 x 10-7
主要特(te)點：
尺寸小(xiao)的ICP-MS
靈(ling)敏(min)度碰撞池(chi)-第(di)三代(dai)ORS3
氣(qi)碰撞池(chi)：只用He氣(qi)就可(ke)以消(xiao)除(chu)所(suo)有幹(gan)擾(rao)。
耐(nai)高(gao)鹽的ICP-MS: HMI技(ji)術（TDS>3%）
ICP離(li)子(zi)源技(ji)術：的(de)數字控制(zhi)式(shi)諧頻(pin)ICP發(fa)生器(qi)
有機(ji)溶劑(ji)進(jin)樣(yang)不熄火！
分(fen)析(xi)：ISIS-DS技(ji)術
容(rong)易維(wei)護(hu)和清(qing)洗
色譜聯機(ji)功(gong)能：真(zhen)正的壹(yi)體(ti)化
功(gong)能的(de)軟(ruan)件(jian)：MassHunter系(xi)統，實現實(shi)時(shi)QA/QC
偏移(yi)標(biao)示，自(zi)動化(hua)控(kong)制(zhi)等(deng)
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