產(chan)品(pin)名(ming)稱:結(jie)構(gou)分析(xi)場(chang)發(fa)射掃描(miao)電鏡/ ULTRA系列掃描(miao)電鏡
產品(pin)型號:
更(geng)新時間(jian):2017-06-28
產(chan)品(pin)特點:結(jie)構(gou)分析(xi)場(chang)發(fa)射掃描(miao)電鏡/ ULTRA系列掃描(miao)電鏡儀器(qi)簡(jian)介:在(zai)SUPRA™場發(fa)射掃描(miao)電子顯(xian)微(wei)鏡(jing)基礎上發(fa)展起來的(de)ULTRA 場(chang)發(fa)射掃描(miao)電子顯(xian)微(wei)鏡(jing)是(shi)用(yong)於(yu)納米(mi)結(jie)構(gou)分析(xi)的(de)電(dian)子(zi)束成(cheng)像(xiang)儀(yi)器中(zhong)的(de)*,它(ta)接收(shou)效(xiao)率(lv)高(gao)、可(ke)以超(chao)高(gao)分(fen)辨(bian)率(lv)成(cheng)像(xiang)。開(kai)發(fa)的(de)能(neng)量(liang)選擇(ze)式背(bei)散射電子(zi)探(tan)測器(qi)(EsB)和(he)角度(du)選擇(ze)式背(bei)散射電子(zi)探(tan)測器(qi)(AsB)則(ze)代(dai)表(biao)了(le)著(zhu)名(ming)的(de)GEMINI®技(ji)術的(de)發(fa)展。
產(chan)品(pin)詳(xiang)細資(zi)料(liao):
結(jie)構(gou)分析(xi)場(chang)發(fa)射掃描(miao)電鏡/ ULTRA系列掃描(miao)電鏡ULTRA綜(zong)合(he)采(cai)用(yong)了(le)用(yong)於(yu)形(xing)貌(mao)成像(xiang)的(de)GEMINI® In-len二(er)次(ci)電子探測器(qi)、用(yong)於(yu)清晰的(de)組(zu)分(fen)襯度(du)的(de)EsB探(tan)測器(qi)和(he)用(yong)於(yu)采(cai)集晶體(ti)通道(dao)信(xin)息(xi)的(de)AsB探(tan)測器(qi)。同步的(de)實(shi)時成像(xiang)與(yu)信(xin)號(hao)混合(he)功(gong)能提(ti)供了*的(de)成(cheng)像(xiang)能(neng)力。
EsB探測器(qi)包含(han)有(you)壹個過濾柵網(wang),通過它(ta)可(ke)實(shi)現高(gao)分辨(bian)率(lv)背(bei)散(san)射電子(zi)成(cheng)像(xiang),讓(rang)以前無法(fa)看(kan)見(jian)的(de)細節歷歷在(zai)目。
卡爾(er).蔡司(si)*的(de)荷(he)電(dian)補(bu)償功(gong)能在(zai)使用(yong)所(suo)有(you)探(tan)測器(qi)時,都(dou)可(ke)以分(fen)析(xi)非導電(dian)樣(yang)品(pin)
低(di)加速(su)電壓時的(de)超(chao)高(gao)分(fen)辨(bian)率(lv)二(er)次(ci)電子和(he)背(bei)散射電子(zi)成(cheng)像(xiang)
用(yong)於(yu)在(zai)納米(mi)尺度(du)上實(shi)現組(zu)分襯度(du)成像(xiang)的(de)高(gao)效(xiao)EsB / AsB探(tan)測器(qi)
精(jing)確控(kong)制(zhi)的(de)超(chao)大(da)自(zi)動優(you)中(zhong)心(eucentric)樣(yang)品(pin)臺(tai)
背散射電子(zi)和(he)二(er)次(ci)電子信(xin)號(hao)的(de)實(shi)時成像(xiang)與(yu)混合(he)功(gong)能
抑制不導電(dian)樣(yang)品(pin)的(de)荷(he)電(dian)效(xiao)應
用(yong)於(yu)X射線(xian)分析(xi)和(he)背(bei)散射電子(zi)衍(yan)射(EBSD)應用(yong)的(de)超(chao)穩定束流(liu)模(mo)式
結(jie)構(gou)分析(xi)場(chang)發(fa)射掃描(miao)電鏡/ ULTRA系列掃描(miao)電鏡技(ji)術參數:
ULTRA基本規格(ge) | |
分辨(bian)率(lv) | 1.0 nm @ 15 kV 1.7 nm @ 1 kV 4.0 nm @ 0.1 kV |
加速(su)電壓 | 0.1 - 30 kV |
探測電(dian)流(liu) | 4 pA - 20 nA |
放大(da)倍數 | 12 - 900,000x |
電子槍(qiang) | 熱場(chang)發(fa)射 |
標準(zhun)探測器(qi) | 鏡(jing)筒內(nei)置式In-Lens二(er)次(ci)電子探測器(qi)和(he)EsB探(tan)測器(qi),樣(yang)品(pin)室(shi)內(nei)AsB探(tan)測器(qi)和(he)ET探(tan)測器(qi) |
圖(tu)象(xiang)處(chu)理 | 7種積分(fen)和(he)平(ping)均模(mo)式 |
系(xi)統(tong)控(kong)制(zhi) | 基於(yu)Windows® XP的(de)SmartSEM™ |
ULTRA 55SE
成(cheng)像(xiang)與(yu)測量(liang)工作站
主要(yao)特點:
ULTRA——*的(de)成(cheng)像(xiang)工(gong)具
看(kan)得(de)更(geng)多(duo)——超高分辨(bian)率(lv)的(de)SE與(yu)BSE同步成像(xiang)
看(kan)得(de)更(geng)清——精(jing)確的(de)*成(cheng)像(xiang)能(neng)力
看(kan)得(de)更(geng)細——納米(mi)尺度(du)上進(jin)行組分(fen)分(fen)析(xi)的(de)利(li)器(qi)
簡(jian)便易(yi)用(yong)——全(quan)面(mian)集(ji)成(cheng)的(de)鏡(jing)筒(tong)內(nei)置式背(bei)散射電子(zi)探(tan)測器(qi)(EsB)和(he)二(er)次(ci)電子探測器(qi)(In-lens detector)
遠(yuan)離(li)荷(he)電(dian)——Ultra plus中(zhong)安裝有(you)荷(he)電(dian)補償(chang)器(qi),實(shi)現了(le)不導電(dian)樣(yang)品(pin)的(de)清晰、精(jing)確成(cheng)像(xiang)
| 如果妳對(dui)此(ci)產(chan)品(pin)感(gan)興趣(qu),想了解(jie)更(geng)詳(xiang)細的(de)產(chan)品(pin)信(xin)息(xi),填寫(xie)下(xia)表(biao)直(zhi)接與(yu)廠(chang)家聯(lian)系: |
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