二(er)手(shou)電(dian)鏡，二(er)手(shou)場發射(she)電(dian)鏡壹(yi)、主要部件：

S-4300主(zhu)機(包括真空系(xi)統、電(dian)子光(guang)學(xue)系(xi)統、檢(jian)測器(qi))、X射(she)線能(neng)譜(pu)儀，E-1030噴金(jin)噴(pen)碳裝置(zhi)等(deng)。

二(er)、主(zhu)要(yao)性能指(zhi)標(biao)：

二次電(dian)子分(fen)辨率：1.0 nm(15 kV)；2.0 nm(1 kV)；背散射電(dian)子分(fen)辨率：3.0 nm (15 kV)；電(dian)子槍：冷場發射(she)電(dian)子源(yuan)，加(jia)速電(dian)壓：0.5 ~ 30 kV(0.1 kV/步(bu)，可(ke)變)；放(fang)大(da)倍(bei)率(lv)：×30 ~ × 800,000；X射(she)線能(neng)譜(pu)儀的(de)元素(su)分析(xi)範圍(wei)為Be4~U92；噴金噴(pen)碳裝(zhuang)置(zhi)可(ke)以(yi)通(tong)特(te)定的(de)氣氛(fen)保(bao)護樣品(pin)。

三(san)、設備特點(dian)及應用範圍(wei)：

S-4800型高分(fen)辨場(chang)發射(she)掃描電(dian)鏡(簡(jian)稱S-4800)為日本(ben)日立公(gong)司(si)於2002年(nian)推(tui)出(chu)的(de)產品(pin)。該電(dian)鏡的(de)電(dian)子發射(she)源(yuan)為冷場，物(wu)鏡為半浸(jin)沒式(shi)。在(zai)高加(jia)速電(dian)壓(15 kV)下(xia)，S-4800的(de)二次電(dian)子圖(tu)像(xiang)分辨率(lv)為1 nm，這(zhe)是目(mu)前(qian)半浸(jin)沒式(shi)冷(leng)場發射(she)掃描電(dian)鏡所能達(da)到(dao)的(de)。該電(dian)鏡在(zai)低加(jia)速電(dian)壓(1 kV)下(xia)的(de)二次電(dian)子圖(tu)像(xiang)分辨率(lv)為2 nm，這(zhe)有利(li)於觀(guan)察(cha)絕(jue)緣或導(dao)電(dian)性差的(de)樣品(pin)。S-4800的(de)主要(yao)附件為X射線能(neng)譜(pu)儀。利(li)用(yong)S-4800和(he)X射線能(neng)譜(pu)儀可(ke)以(yi)在(zai)觀(guan)察(cha)樣(yang)品(pin)表面微觀(guan)形(xing)貌的(de)同(tong)時進行微區成(cheng)分(fen)定(ding)性和定(ding)量以(yi)及元(yuan)素分布分析(xi)。此(ci)次所購X射(she)線能(neng)譜(pu)儀的(de)元素(su)分析(xi)範圍(wei)為Be4~U92，從(cong)而(er)可(ke)以(yi)分析(xi)輕元素(su)。由(you)於S-4800不(bu)能在(zai)低真空(kong)條(tiao)件下(xia)工(gong)作，因(yin)此(ci)不(bu)適合(he)直(zhi)接觀(guan)察(cha)含(han)水(shui)和含油(you)樣品。

二(er)手(shou)電(dian)鏡，二(er)手(shou)場發射(she)電(dian)鏡采用(yong)了新(xin)型(xing) ExB 式探(tan)測器(qi)和(he)電(dian)子束(shu)減(jian)速功(gong)能, 提高了(le)圖象(xiang)質(zhi)量(liang)(15 kV 下(xia)分辨率 1 nm) ， 尤其是將(jiang)低加(jia)速電(dian)壓下(xia)的(de)圖象(xiang)質(zhi)量(liang)提(ti)高到(dao)了(le)新的(de)水平(ping)(1 kV 下 1. 4 nm) ； 新(xin)型的(de)透鏡系(xi)統， 提(ti)高了(le)高分(fen)辨模式(shi)、 高速(su)流(liu)模式(shi)、 大(da)工(gong)作距(ju)離模式(shi)、 磁性樣品(pin)模式(shi)等多種(zhong)工(gong)作模式(shi)， 使其(qi)能夠精確和清(qing)楚地捕捉最短暫的(de)瞬(shun)間。 目(mu)前(qian)掃描電(dian)子顯(xian)微鏡(jing)的(de)最主要(yao)組(zu)合(he)分析功(gong)能有: X 射(she)線顯(xian)微分(fen)析(xi)系(xi)統（即(ji)能譜(pu)儀, EDS）， 主要(yao)用(yong)於元素(su)的(de)定性和定(ding)量分析(xi)， 並可(ke)分析(xi)樣(yang)品(pin)微區的(de)化學(xue)成(cheng)分(fen)等(deng)信(xin)息(xi)； 電(dian)子背散射系(xi)統 （即(ji)結晶學(xue)分析(xi)系(xi)統）， 主(zhu)要用(yong)於晶體(ti)和(he)礦物(wu)的(de)研究(jiu)。