二手(shou) 日(ri)立 S-3400N 掃(sao)描電鏡 在(zai)材料科(ke)學、半導(dao)體研(yan)發(fa)和(he)工(gong)業檢測領域(yu)，高(gao)精(jing)度微(wei)觀(guan)分(fen)析(xi)能(neng)力(li)是(shi)推動技術(shu)突破的關(guan)鍵。日(ri)立 S-3400N 型(xing)掃描電子(zi)顯微鏡（SEM）憑借其(qi)成像性(xing)能(neng)和多(duo)功(gong)能(neng)分(fen)析(xi)能(neng)力(li)，成為(wei)科研(yan)機構與(yu)企業的核心檢測工(gong)具。作(zuo)為(wei)行業的設(she)備(bei)解(jie)決(jue)方(fang)案供應商(shang),推出的日(ri)立 S-3400N 租(zu)售(shou)服(fu)務(wu)，以(yi)靈(ling)活(huo)的模(mo)式、專(zhuan)業的技術(shu)支(zhi)持(chi)和全周期服(fu)務(wu)體(ti)系(xi)，為(wei)客(ke)戶提(ti)供低成(cheng)本(ben)、高(gao)可靠性(xing)的微(wei)觀分(fen)析(xi)解(jie)決(jue)方(fang).

二手(shou)JEOL IT-500HR場(chang)發(fa)射(she)電鏡屬(shu)於(yu)掃描電子(zi)顯微鏡，歸(gui)為(wei) InTouchScope™系列(lie)，憑借高(gao)亮度(du)電(dian)子(zi)槍與(yu)優(you)化(hua)的透(tou)鏡系統(tong)，兼顧(gu)高(gao)分(fen)辨(bian)率(lv)成(cheng)像與(yu)高(gao)效元素分(fen)析(xi)能(neng)力(li)，適(shi)配多(duo)領域(yu)樣(yang)品(pin)觀測(ce)與(yu)成分(fen)檢測需求(qiu)。

二手(shou) 日(ri)立CD-SEM 掃(sao)描電鏡S-9380（臨界尺寸掃描電子(zi)顯微鏡）設備(bei)在(zai)半導(dao)體制造(zao)和(he)納米材料研(yan)究領域(yu)具有廣(guang)泛的應(ying)用

二手(shou)HITACHI S-4800掃描電子(zi)顯微鏡冷(leng)場(chang)發(fa)射(she)電子(zi)源提(ti)供1.0 nm超高(gao)分(fen)辨(bian)率(lv)成(cheng)像，0.5-30 kV連(lian)續可調(tiao)電壓精(jing)準適(shi)配各(ge)類樣(yang)品(pin)，配合(he)E×B技術(shu)實現SE/BSE信(xin)號自由(you)切換(huan)，10mm2能(neng)譜儀(yi)可快速完成(cheng)Be到U的全元素分(fen)析(xi)。

二手(shou)日(ri)立 SU-8230 冷(leng)場(chang)超高(gao)分(fen)辨(bian)掃(sao)描電鏡主要功能(neng)及應(ying)用(yong)範圍：微區形(xing)貌、微區成(cheng)分(fen)分(fen)析(xi)。可以觀察和檢測非(fei)均相(xiang)有機、無機材料(liao)，及這些材(cai)料(liao)在(zai)納米、微米級樣(yang)品(pin)的表面(mian)特征(zheng)。該(gai)儀器(qi)廣(guang)泛應(ying)用(yong)於(yu)金(jin)屬(shu)材(cai)料、高(gao)分(fen)子(zi)材料、半導(dao)體材料(liao)、化(hua)工(gong)原料(liao)、地礦物品(pin)、寶(bao)石(shi)文(wen)物等微(wei)觀形(xing)貌的研(yan)究及公(gong)安(an)刑偵的物證(zheng)分(fen)析(xi)。

二手(shou) 牛(niu)津(jin) EBSD NordlysMax3實時采(cai)集、標(biao)定和(he)顯(xian)示結果(guo)速度高(gao)達1580點(dian)/秒(miao) AZtec EBSD提(ti)供全面(mian)采集性能(neng) 同時采(cai)集分(fen)析(xi)EBSD和(he)EDS數(shu)據，速度不衰減 同時保(bao)持(chi)高(gao)靈(ling)敏(min)度(du)和(he)高(gao)靈(ling)活(huo)性(xing) 它(ta)將(jiang)成為(wei)您電(dian)鏡上(shang)的壹(yi)名(ming)新成(cheng)員

二手(shou) JSM日(ri)本(ben)電子(zi)--IT100/IT500掃描電鏡應用(yong)於無機材料(liao)、高(gao)分(fen)子(zi)材料、復合材料(liao)、納米材料、半導(dao)體等材(cai)料中 ? 表面(mian)形貌觀(guan)察 ? 組(zu)織(zhi)結構(gou)觀(guan)察 ? 顆(ke)粒(li)大小分(fen)析(xi) ? 斷面(mian)性質分(fen)析(xi) ? 微(wei)區成(cheng)份分(fen)析(xi)。

Hitachi 二手(shou)SU5000熱(re)場(chang)式場(chang)發(fa)射(she)掃描電鏡允許在(zai)高(gao)真空(kong)和(he)可變(bian)壓力(li)模式(shi)之間進(jin)行簡單的切(qie)換(huan)。樣(yang)品(pin)室可容(rong)納大型樣(yang)品(pin)（-200mmφ，-80mmH）。使用(yong)無場(chang)光學元件和(he)可變(bian)壓力(li)輕(qing)松(song)對任何類型(xing)的樣(yang)品(pin)進行成像，最(zui)多可同時提(ti)供4個(ge)信號，3D MultiFinder工(gong)具，使(shi)樣(yang)品(pin)可以輕(qing)松(song)傾(qing)斜(xie)和(he)旋轉，影像依(yi)然(ran)保(bao)持(chi)居中和聚焦(jiao)。

Hitachi 二手(shou) SU-5000場(chang)發(fa)射(she)電鏡 SEM+EDX是(shi)壹(yi)款高(gao)性能(neng)電子(zi)光學系統(tong)，具備(bei)2.0 nm的二次電子(zi)分(fen)辨(bian)率(lv)和(he)強(qiang)大的低加速電壓成像能(neng)力(li)（低至(zhi)100 V），支(zhi)持(chi)高(gao)效微(wei)區分(fen)析(xi)及材(cai)料(liao)研(yan)究。其(qi)“EM Wizard”界面(mian)簡化(hua)了操(cao)作流程，提(ti)供高(gao)真空(kong)與(yu)可變(bian)壓力(li)模式(shi)之間的靈(ling)活(huo)切(qie)換(huan)，並配(pei)備(bei)了(le)多(duo)種(zhong)分(fen)析(xi)工(gong)具如(ru)EDS、WDS、EBSD等(deng)，適(shi)用於(yu)廣(guang)泛的科(ke)研(yan)領域(yu)。

二手(shou) 日(ri)立 SU-5000 熱(re)場(chang)發(fa)射(she)電鏡允許在(zai)高(gao)真空(kong)和(he)可變(bian)壓力(li)模式(shi)之間進(jin)行簡單的切(qie)換(huan)。樣(yang)品(pin)室可容(rong)納大型樣(yang)品(pin)（-200mmφ，-80mmH）。使用(yong)無場(chang)光學元件和(he)可變(bian)壓力(li)輕(qing)松(song)對任何類型(xing)的樣(yang)品(pin)進行成像，最(zui)多可同時提(ti)供4個(ge)信號，3D MultiFinder工(gong)具，使(shi)樣(yang)品(pin)可以輕(qing)松(song)傾(qing)斜(xie)和(he)旋轉，影像依(yi)然(ran)保(bao)持(chi)居中和聚焦(jiao)。