二(er)手(shou)JEOL IT-500HR場(chang)發射電鏡(jing)屬(shu)於掃(sao)描(miao)電子(zi)顯微鏡(jing)，歸(gui)為(wei) InTouchScope™系(xi)列(lie)，憑借(jie)高亮(liang)度(du)電子(zi)槍(qiang)與(yu)優化的(de)透(tou)鏡(jing)系(xi)統，兼(jian)顧高分辨(bian)率(lv)成像(xiang)與(yu)高效元(yuan)素分析(xi)能(neng)力(li)，適配(pei)多(duo)領域(yu)樣品觀測與(yu)成分檢測需(xu)求。

二(er)手(shou)HITACHI S-4800掃(sao)描(miao)電子(zi)顯微鏡(jing)冷(leng)場(chang)發射電子源(yuan)提(ti)供1.0 nm超(chao)高分辨(bian)率(lv)成像(xiang)，0.5-30 kV連(lian)續可(ke)調(tiao)電壓(ya)精(jing)準適配各類樣品，配合E×B技(ji)術實現SE/BSE信(xin)號(hao)自(zi)由(you)切(qie)換(huan)，10mm2能譜儀(yi)可(ke)快(kuai)速(su)完(wan)成Be到(dao)U的(de)全(quan)元素分析(xi)。

二(er)手(shou)日(ri)立(li) SU-8230 冷(leng)場(chang)超(chao)高分辨(bian)掃(sao)描(miao)電鏡(jing)主(zhu)要(yao)功(gong)能及應用範(fan)圍(wei)：微區形貌(mao)、微區成分分析(xi)。可(ke)以(yi)觀(guan)察(cha)和(he)檢測非均相(xiang)有(you)機、無機材料(liao)，及這些材料(liao)在(zai)納(na)米(mi)、微米級樣品的表面(mian)特征(zheng)。該儀(yi)器廣(guang)泛應(ying)用於金屬(shu)材料(liao)、高分子(zi)材料(liao)、半導(dao)體材料(liao)、化工(gong)原(yuan)料(liao)、地礦(kuang)物品、寶石文(wen)物等微觀形貌(mao)的研(yan)究(jiu)及公(gong)安刑(xing)偵的(de)物證分析(xi)。

Hitachi 二(er)手(shou)SU5000熱(re)場(chang)式(shi)場(chang)發射掃(sao)描(miao)電鏡(jing)允(yun)許(xu)在(zai)高真空(kong)和(he)可(ke)變壓力(li)模(mo)式(shi)之(zhi)間(jian)進(jin)行(xing)簡(jian)單(dan)的切(qie)換(huan)。樣品室(shi)可(ke)容(rong)納(na)大(da)型(xing)樣品（-200mmφ，-80mmH）。使用無(wu)場(chang)光(guang)學(xue)元件(jian)和(he)可(ke)變壓力(li)輕(qing)松對(dui)任(ren)何類型的樣品進(jin)行(xing)成像(xiang)，最(zui)多(duo)可(ke)同(tong)時提供(gong)4個信(xin)號(hao)，3D MultiFinder工(gong)具(ju)，使樣品可(ke)以(yi)輕(qing)松傾(qing)斜(xie)和(he)旋轉，影(ying)像(xiang)依(yi)然(ran)保持居中(zhong)和(he)聚(ju)焦。

Hitachi 二(er)手(shou) SU-5000場(chang)發射電鏡(jing) SEM+EDX是壹(yi)款(kuan)高性能電子光(guang)學(xue)系統，具(ju)備(bei)2.0 nm的二(er)次(ci)電(dian)子(zi)分辨(bian)率(lv)和(he)強(qiang)大(da)的(de)低(di)加速(su)電(dian)壓成像(xiang)能(neng)力(li)（低至100 V），支持高效微區分析(xi)及(ji)材料(liao)研(yan)究(jiu)。其“EM Wizard”界(jie)面(mian)簡(jian)化了操作流程(cheng)，提(ti)供(gong)高真空(kong)與(yu)可(ke)變壓力(li)模(mo)式(shi)之(zhi)間(jian)的靈活切(qie)換(huan)，並配(pei)備(bei)了多(duo)種(zhong)分析(xi)工(gong)具(ju)如EDS、WDS、EBSD等(deng)，適用於廣(guang)泛的(de)科研(yan)領域(yu)。

二(er)手(shou) 日(ri)立(li) SU-5000 熱(re)場(chang)發射電鏡(jing)允(yun)許(xu)在(zai)高真空(kong)和(he)可(ke)變壓力(li)模(mo)式(shi)之(zhi)間(jian)進(jin)行(xing)簡(jian)單(dan)的切(qie)換(huan)。樣品室(shi)可(ke)容(rong)納(na)大(da)型(xing)樣品（-200mmφ，-80mmH）。使用無(wu)場(chang)光(guang)學(xue)元件(jian)和(he)可(ke)變壓力(li)輕(qing)松對(dui)任(ren)何類型的樣品進(jin)行(xing)成像(xiang)，最(zui)多(duo)可(ke)同(tong)時提供(gong)4個信(xin)號(hao)，3D MultiFinder工(gong)具(ju)，使樣品可(ke)以(yi)輕(qing)松傾(qing)斜(xie)和(he)旋轉，影(ying)像(xiang)依(yi)然(ran)保持居中(zhong)和(he)聚(ju)焦。

二(er)手(shou) 蔡司(si) sigma300 場(chang)發射電鏡(jing)分析(xi)性能與(yu)場(chang)發射掃(sao)描(miao)技術(shu)相(xiang)結合，利(li)用成熟(shu)的 Gemini 電子(zi)光學(xue)元件(jian)。多(duo)種(zhong)探(tan)測(ce)器可(ke)選(xuan)：用於顆粒、表(biao)面(mian)或者(zhe)納(na)米(mi)結構成像(xiang)。Sigma 半(ban)自(zi)動的4步(bu)工(gong)作(zuo)流程(cheng)節(jie)省(sheng)大(da)量(liang)的(de)時間：設(she)置成像(xiang)與(yu)分析(xi)步(bu)驟，提高效率(lv)。 Sigma 300 性價比高。Sigma 500 裝(zhuang)配有(you)的背散(san)射幾何探(tan)測(ce)器，可(ke)快(kuai)速(su)方(fang)便地實現基礎分析(xi)。任(ren)何時間，任(ren)何樣品均可(ke)獲(huo)得(de)精(jing)準可(ke)重復(fu)的分析(xi)結果。

二(er)手(shou) 日(ri)本電(dian)子 IT-500掃(sao)描(miao)電鏡(jing)是JEOL InTouchScope系列(lie)的新(xin)機型。 從(cong)設(she)定視野到(dao)生(sheng)成報(bao)告，用於分析(xi)的(de)軟(ruan)件整合於壹(yi)體，加快(kuai)了作業速(su)度(du)！是壹(yi)款(kuan)無縫操作(zuo)，使用更(geng)加方(fang)便(bian)的(de)掃(sao)描(miao)電子(zi)顯微鏡(jing)

二(er)手(shou) 日(ri)立(li) SU8020 高分辨(bian)冷(leng)場(chang)發射電鏡(jing)具(ju)有的(de)功能(neng)，適用於各種(zhong)固(gu)態(tai)樣品表面(mian)形(xing)貌(mao)的(de)二次電(dian)子(zi)像(xiang)、 背散(san)射電子像(xiang)觀(guan)察(cha)及圖像(xiang)處(chu)理。低電壓(ya)下通過在(zai)納(na)米(mi)尺(chi)度(du)上(shang)觀(guan)察(cha)生物樣品如組(zu)織、 細(xi)胞、 微生物以(yi)及(ji)生物大(da)分子(zi)等(deng)，獲得(de)忠(zhong)實原貌(mao)的立(li)體感的樣品表面(mian)超(chao)微形貌結構信(xin)息(xi)。 具(ju)有高性能X射線能(neng)譜儀(yi)，能同(tong)時進(jin)行(xing)樣品表層的(de)微區點線面(mian)元(yuan)素的(de)定性、 半定量分析(xi)，具(ju)有形(xing)貌、 化(hua)學(xue)組分綜(zong)合分析(xi)能(neng)力(li)。

SU-8010 日(ri)立(li) 二(er)手冷(leng)場(chang)發射電鏡(jing)二(er)次(ci)電(dian)子像(xiang)、反(fan)射電子像(xiang)進(jin)行(xing)觀察(cha)及圖像(xiang)處(chu)理。可(ke)對(dui)金屬(shu)、陶瓷(ci)、巖(yan)石(shi)礦(kuang)物、生物等樣品及各種(zhong)固(gu)體材料(liao)進(jin)行(xing)觀察(cha)和(he)分析(xi)研(yan)究(jiu)。電鏡(jing)配(pei)有(you)高性能X射線能(neng)量色散譜儀(yi)，簡(jian)稱能譜儀(yi)（EDS），能在(zai)不(bu)損壞(huai)樣品的同時進(jin)行(xing)樣品表層的(de)微區點、線、面(mian)元(yuan)素的(de)定性、定量分析(xi)。具(ju)有形(xing)貌、化(hua)學(xue)組分綜(zong)合分析(xi)能(neng)力(li)。