日立(li)二(er)手(shou)電(dian)鏡SEM+EDX

1.樣(yang)品要求(qiu)：粉(fen)體(ti)需5mg左(zuo)右；塊體(ti)長(chang)寬(kuan)高(gao)需小(xiao)於(yu)10mm（超(chao)出該尺寸(cun)請(qing)提(ti)前聯系(xi)技(ji)術顧問確認(ren)，鑲(xiang)嵌樣(yang)及多孔材(cai)料(liao)抽(chou)真(zhen)空時間較(jiao)長(chang)，尺寸(cun)盡量小壹些(xie)，非特殊(shu)原因請(qing)務(wu)必(bi)按(an)要(yao)求(qiu)制樣(yang)，以免耽誤(wu)測試(shi)效果(guo)及周期(qi)）；液態(tai)或(huo)粘稠樣(yang)品務(wu)必(bi)烘(hong)幹寄(ji)樣(yang)，如電(dian)子(zi)束(shu)照射(she)下(xia)流(liu)動(dong)變形，則(ze)無(wu)法拍攝(she)；

2. 此(ci)項(xiang)目(mu)需提(ti)前聯系(xi)技(ji)術顧問預約(yue)測試(shi)時間(jian)！下單後技(ji)術顧問根(gen)據樣(yang)品要求(qiu)和(he)數量(liang)預估測試(shi)時長(chang)，從樣(yang)品進(jin)樣(yang)開(kai)始計(ji)時，最(zui)終(zhong)以實(shi)際測試(shi)為準(zhun)，多(duo)退少補；現(xian)場測試(shi)請(qing)聯系(xi)技(ji)術顧問確認(ren)現(xian)場地(di)址(zhi)及(ji)時(shi)間(jian)，建議提(ti)20min到(dao)現場制樣(yang)及噴金(jin)（需要(yao)特殊(shu)制樣(yang)方式請(qing)提(ti)前說明），遠(yuan)程視(shi)頻測試(shi)默認收到(dao)樣(yang)品後確(que)認(ren)測試(shi)時間(jian).

3. 特別註(zhu)意(yi)：無(wu)法測試(shi)強磁材(cai)料(liao)；若(ruo)樣(yang)品有磁性（含(han)鐵/鈷(gu)/錳(meng)/鎳元素(su)），請(qing)提(ti)前說明；常規(gui)倍數可達(da)5w-10w，最(zui)大(da)20萬(wan)倍，但(dan)實(shi)際效(xiao)果(guo)和(he)樣(yang)品性質有關(guan)，若(ruo)樣(yang)品有磁性或(huo)導電(dian)性差，高(gao)倍下(xia)不能保證(zheng)好的效果(guo)，敬(jing)請(qing)理(li)解(jie)！

4. 此(ci)項(xiang)目(mu)為計(ji)時收費(fei)，請(qing)在(zai)樣(yang)品數量(liang)處(chu)填(tian)1；

5. 如(ru)有其(qi)他疑(yi)問，請(qing)聯系(xi)前期(qi)對接的技(ji)術顧問；

結(jie)果(guo)展(zhan)示(shi)

主(zhu)要技(ji)術指標· 鎢燈絲(si)電(dian)子(zi)槍(qiang)；· 加(jia)速電(dian)壓：0.2~30 kV，連(lian)續可調；· 放(fang)大(da)倍數(shu)：6×~1200,000×；· 30 kV高(gao)壓下(xia)，分辨(bian)率(lv)：3.5 nm；  3 kV電(dian)壓下(xia)，分辨(bian)率(lv)：15 nm；  環(huan)境掃(sao)描條(tiao)件(jian)下(xia)，分辨(bian)率(lv)：3.5 nm；  能譜儀分辨(bian)率(lv)：133 eV主(zhu)要功能及應用範(fan)圍· 納米(mi)材(cai)料(liao)、復(fu)合(he)材(cai)料(liao)、陶瓷(ci)材(cai)料(liao)、金(jin)屬材(cai)料(liao)、高(gao)分子(zi)材(cai)料(liao)、薄(bo)膜材(cai)料(liao)、建(jian)築(zhu)材(cai)料(liao)、生(sheng)物材(cai)料(liao)、電(dian)子(zi)材(cai)料(liao)、導(dao)體(ti)與(yu)非導體(ti)地(di)礦、考(kao)古(gu)等(deng)表面(mian)微(wei)觀形貌(mao)觀察及成(cheng)分分析。