二手(shou) 日(ri)本電子(zi) IT-500掃(sao)描(miao)電鏡JSM-IT500掃描(miao)電子(zi)顯(xian)微鏡

性能(neng)介(jie)紹(shao)

■ 利(li)用 Zeromag 進行(xing)快(kuai)速導(dao)航

■ Live Analysis在(zai)圖(tu)像(xiang)觀(guan)察過程(cheng)中進(jin)行(xing)實(shi)時分析

■ SMILE VIEW LAB 能綜(zong)合(he)管(guan)理(li) SEM 圖(tu)像(xiang) & EDS 分析數據(ju)

■ 安全、簡便(bian) 的(de)樣(yang)品交換導(dao)航

日(ri)常分析更(geng)迅(xun)速！更(geng)簡便(bian) !

從(cong)安裝樣(yang)品到(dao)生(sheng)成報告(gao)，實(shi)時分析軟件(jian)使(shi)分析過程(cheng)無(wu)縫(feng)連貫(guan)，作業速度更(geng)快(kuai)，操(cao)作更(geng)加簡便(bian)。

■ Zeromag

從(cong)樣(yang)品架示意圖(tu)或(huo)者CCD圖(tu)像(xiang)上尋找(zhao)視(shi)野和分析位(wei)置(zhi)。

可以快(kuai)速地(di)尋(xun)找(zhao)視(shi)野 , 簡便(bian)地(di)預(yu)約多個視(shi)野連續分析的位(wei)置(zhi)。

■ Live Analysis （ 實(shi)時分析）

觀察過程(cheng)中的(de) EDS 分析

在觀察(cha)過程(cheng)中可以隨(sui)時實時顯(xian)示分析區(qu)域(yu)內(nei)的特征 X 射線(xian)譜圖(tu)、自動(dong)定(ding)性(xing)分析結果和主(zhu)要構(gou)成元素(su)。

還可以標記“Alert"到(dao)感(gan)興(xing)趣的(de)元素(su)上。

■ 數據(ju)集中管(guan)理(li)軟件(jian) SMILE VIEWTM Lab

通(tong)過數(shu)據(ju)管(guan)理(li)圖(tu)標(biao)或獲(huo)取的(de)數據(ju)壹覽，顯(xian)示數據(ju)管(guan)理(li)畫(hua)面後(hou)，可以重新查看(kan)或再(zai)次(ci)分析數據(ju)，還可以壹鍵生(sheng)成報告(gao)。

利(li)用用戶日(ri)誌也可以分別管(guan)理(li)數據(ju)。由(you)於數(shu)據(ju)相(xiang)互聯動(dong)，進(jin)行(xing)重(zhong)構(gou)也很(hen)簡單(dan)。

二手(shou) 日(ri)本電子(zi) IT-500掃(sao)描(miao)電鏡  是(shi)壹款(kuan)掃描(miao)電鏡，它(ta)只需很少的(de)步(bu)驟就(jiu)能獲(huo)取高(gao)倍(bei)率圖(tu)像(xiang)。

● 二(er)次(ci)電子(zi)圖(tu)像(xiang)

利(li)用高(gao)真空二次(ci)電子(zi)像(xiang)觀(guan)察鐵(tie)銹(xiu)的表面(mian)，在高(gao)倍(bei)率下(xia)可以觀察到(dao)細(xi)微的表面(mian)形貌(mao)。

● 背(bei)散射電子(zi)圖(tu)像(xiang)

下(xia)圖(tu)是(shi)硬(ying)質(zhi)合金(jin)截(jie)面(mian)的(de)背(bei)散射電子(zi)成分像(xiang)，在(zai)低(di)電壓(ya)的(de)背(bei)散射電子(zi)模(mo)式(shi)下(xia)可以觀察每(mei)個碳(tan)化鎢顆粒(li)的晶(jing)體取(qu)向（通道(dao)襯(chen)度(du)）差(cha)異(yi)。

● 選(xuan)擇(ze)掃描(miao)系(xi)統(tong)可獲(huo)取畫(hua)質(zhi)更(geng)好的低(di)加速電壓(ya)圖(tu)像(xiang)

可以選(xuan)擇(ze)快(kuai)速幀(zhen)累(lei)積(ji)的掃(sao)描(miao)系(xi)統(tong)來(lai)減(jian)少樣(yang)品的(de)放(fang)電現像(xiang)。因此 ,即(ji)使(shi)在(zai)低(di)加速電壓(ya)下(xia)觀(guan)察容(rong)易荷(he)電或易受(shou)電子(zi)束(shu)損(sun)傷(shang)的樣(yang)品，也能(neng)容易地(di)獲(huo)取高(gao)倍(bei)率圖(tu)像(xiang)。

低(di)真空模式(shi)

在物(wu)鏡附(fu)近(jin)進(jin)行(xing)差(cha)動(dong)抽(chou)氣顯(xian)著(zhu)提(ti)高(gao)了(le)低(di)真空模式(shi)下(xia)的(de)圖(tu)像(xiang)質(zhi)量。此(ci)外，低(di)真空模式(shi)的最(zui)大(da)壓(ya)力(li)可高(gao)達(da) 650 Pa, 進(jin)壹步(bu)擴(kuo)大(da)了(le)應用範圍(wei)。

超(chao)低(di)真空圖(tu)像(xiang)

含(han)有大(da)量水(shui)分的軟樣(yang)品會(hui)因為樣(yang)品室內(nei)的壓(ya)力(li)而(er)無(wu)法(fa)保持原有的結構(gou)。從前(qian)對(dui)這(zhe)樣(yang)的樣(yang)品不(bu)進行(xing)特殊處(chu)理(li)就(jiu)無法(fa)觀(guan)察(cha)。當(dang)低(di)真空壓(ya)力(li)範(fan)圍(wei)擴(kuo)展到(dao) 650 Pa 時，即使(shi)沒有(you)特殊處(chu)理(li)也可以在對樣(yang)品損(sun)傷(shang)很小的(de)情況(kuang)下(xia)進(jin)行(xing)觀(guan)察(cha)。

SEM 觀(guan)察界(jie)面(mian)

在 SEM 觀(guan)察(cha)界(jie)面(mian)上可以確認(ren)到(dao)正(zheng)在(zai)觀(guan)察的譜圖(tu)和主(zhu)要元素(su)。

各個分析區(qu)域(yu)都與(yu)對(dui)應的樣(yang)品臺(tai)坐標(biao)關聯，並(bing)且(qie)顯(xian)示在樣(yang)品架示意圖(tu)上或者(zhe) CCD 圖(tu)像(xiang) 上。

● EDS

X 射線(xian)能(neng)譜儀 (EDS) 是(shi)安裝在掃(sao)描(miao)電鏡 (SEM) 的附(fu)件(jian)，通(tong)過檢(jian)測電子(zi)束(shu)照(zhao)射時樣(yang)品產(chan)生(sheng)的(de)特征 X 射線(xian)，從(cong)而(er)進(jin)行(xing)元素(su)分析。

詳(xiang)細(xi)分析顯(xian)示界(jie)面(mian)

切換(huan)到(dao)詳(xiang)細(xi)分析顯(xian)示界(jie)面(mian)後可以進行(xing)譜圖(tu)解析(xi)以及元素(su)面分布(bu)分析等。

即(ji)使(shi)在分析期(qi)間，也可以從已經(jing)獲(huo)取的(de)數據(ju)中生(sheng)成報告(gao)。