產(chan)品名稱:二(er)手 蔡(cai)司(si) SEM SUPRA25 掃(sao)描(miao)電鏡(jing)
產(chan)品型號:
更(geng)新(xin)時間(jian):2025-02-28
產品特點:二(er)手 蔡(cai)司(si) SEM SUPRA25 掃(sao)描(miao)電鏡(jing)廣(guang)泛地(di)應(ying)用(yong)於金屬材(cai)料(liao)(鋼(gang)鐵、冶(ye)金、有色、機械加(jia)工)和非金屬材(cai)料(liao)(化(hua)學、化(hua)工、石油(you)、地(di)質(zhi)礦(kuang)物(wu)學、橡(xiang)膠(jiao)、 織(zhi)、水泥、玻璃(li)纖(xian)維)等檢(jian)驗和研究。在材(cai)料(liao)科(ke)學研(yan)究(jiu)、金屬材(cai)料(liao)、陶(tao)瓷(ci)材(cai)料(liao)、半導體(ti)材(cai)料(liao)、化(hua)學材(cai)料(liao)等領(ling)域進行材(cai)料(liao)的微觀(guan)形貌(mao)、組(zu)織(zhi)、成分分析(xi),各種材(cai)料(liao)的形(xing)貌(mao)組(zu)織(zhi)觀(guan)察(cha),材(cai)料(liao)斷(duan)口(kou)分析(xi)和失效分(fen)析(xi),材(cai)料(liao)實(shi)時微區(qu)成分分析(xi),元(yuan)素(su)定(ding)量、定(ding)性成分分析(xi)。
產品詳(xiang)細(xi)資(zi)料(liao):
二(er)手蔡(cai)司(si) SEM SUPRA25 掃(sao)描(miao)電鏡(jing)技(ji)術(shu)參(can)數
1、分(fen)辨(bian)率(lv):2.0nm @ 30KV(SE with Lab6 option) 3.0nm @ 30KV(SE and W) 4.5nm @ 30KV(VP with BSD)
2、加(jia)速電(dian)壓(ya):0.2—30KV
3、放大倍(bei)數:5—1000000x
4、視野(ye)範(fan)圍(wei):6mm
5、X-射(she)線(xian)參(can)數:8.5mm WD,35度(du)接(jie)收(shou)角(jiao)
6、壓(ya)力範(fan)圍(wei):10—400Pa (LS25-3000Pa)
7、工作(zuo)室:420mm(φ)×330mm(h)
8、5軸試樣載(zai)物(wu)臺:X=130mm Y=130mm Z=50mm T=0-90°R=360°
9、大試(shi)樣高(gao)度(du):210mm,直徑:300mm
10、系(xi)統(tong)控(kong)制(zhi):基(ji)於Windows XP 的SmartSEM

二(er)手 蔡(cai)司(si) SEM SUPRA25 掃(sao)描(miao)電鏡(jing)主(zhu)要(yao)特(te)點
1、樣(yang)品高(gao)度(du)可(ke)達(da)210mm
2、樣(yang)品重量5Kg
3、樣(yang)品直徑300mm
4、能在可(ke)變壓(ya)力下操作(zuo)
5、高(gao)亮度(du)LaB6資(zi)源(yuan)選擇(ze)
6、光(guang)線套(tao)選擇(ze)

二(er)手 蔡(cai)司(si) SEM SUPRA25 掃(sao)描(miao)電鏡(jing)技(ji)術優勢(shi)
1.在z軸(zhou)上(shang)可(ke)機動(dong)化(hua)的移動50mm並(bing)且(qie)在X和Y軸上(shang)可(ke)移動130mm
2.通(tong)用(yong)圖像(xiang)處理
3.用(yong)X射線(xian)分(fen)析(xi)改進(jin)了(le)LaB6成像質(zhi)量
4.支(zhi)持(chi)兩個(ge)空間(jian)的範(fan)圍(wei)
環(huan)境要(yao)求:
掃(sao)描(miao)電子顯微鏡(jing)的使(shi)用(yong)環(huan)境條(tiao)件主(zhu)要(yao)涉(she)及溫度(du)、濕(shi)度(du)、震動、磁場強(qiang)度(du)、接(jie)地(di)等幾(ji)個(ge)因素(su)。壹般情況(kuang)下,環(huan)境溫(wen)度(du)需(xu)控(kong)制(zhi)在22~25℃,相(xiang)對(dui)濕(shi)度(du)以(yi)小(xiao)於70%為(wei)宜(yi),保證實驗室(shi)清潔整(zheng)齊,避(bi)免大聲(sheng)喧(xuan)嘩(hua)及(ji)震動、磁場的幹(gan)擾(rao)。溫(wen)濕(shi)度(du)控(kong)制(zhi)需配(pei)備(bei)空調和除濕(shi)機,特(te)別是在南(nan)方地(di)區(qu)壹定(ding)要保(bao)證對濕(shi)度(du)的控(kong)制(zhi),避(bi)免溫(wen)濕(shi)度(du)對(dui)電(dian)鏡(jing)電(dian)子部件的影(ying)響(xiang)。由(you)於場(chang)發(fa)射掃(sao)描(miao)電子顯微鏡(jing)的分(fen)辨(bian)率(lv)較高(gao),對震動和磁場強(qiang)度(du)的要(yao)求也較高(gao),所以(yi)需盡量避(bi)免震動和雜散磁(ci)場(chang)的幹(gan)擾(rao)。壹般在安(an)裝時(shi),建(jian)議將(jiang)電(dian)鏡(jing)放置在樓(lou)體(ti)壹層,遠(yuan)離(li)輸(shu)電線(xian)路、大功率(lv)設(she)備(bei)等,並做(zuo)防震地(di)基(ji)和獨立(li)地(di)線(xian)設(she)置。電鏡(jing)地(di)線(xian)要(yao)求必須(xu)是(shi)獨立(li)地(di)線(xian),即(ji)接(jie)地(di)體(ti)到接線(xian)端(duan)子均(jun)獨立(li),避(bi)免地(di)線(xian)連(lian)接(jie)到公共(gong)接地(di)體(ti)。在使(shi)用(yong)過程中,若(ruo)周圍(wei)有(you)雜(za)散磁(ci)場(chang),在大倍(bei)數觀(guan)察(cha)時(shi)圖(tu)像會(hui)出現縱或(huo)橫(heng)條紋(wen)幹(gan)擾(rao)。總之,日(ri)常使用(yong)過程中要(yao)嚴(yan)格(ge)控(kong)制(zhi)電鏡(jing)的環(huan)境條(tiao)件。以(yi)ULTRAPLUS掃(sao)描(miao)電子顯微鏡(jing)為(wei)例(li),環(huan)境條(tiao)件要(yao)求如(ru)下:溫度(du)保(bao)持(chi)在21~25℃,相(xiang)對(dui)濕(shi)度(du)小(xiao)於65%,磁(ci)場(chang)強(qiang)度(du)小(xiao)於3×10-7T,噪(zao)聲(sheng)強(qiang)度(du)小(xiao)於65dB,獨立(li)地(di)線(xian)的接(jie)地(di)電(dian)阻(zu)小(xiao)於0.1Ω。
檢(jian)查真空系(xi)統(tong):
電(dian)鏡(jing)中的真空系(xi)統(tong)壹般由真空泵、管道(dao)、和真空測(ce)量裝置組成。高(gao)真空度(du)可(ke)減少(shao)電(dian)子與氣體分(fen)子的碰(peng)撞(zhuang),增加(jia)燈絲(si)壽(shou)命,所(suo)以(yi)必須(xu)高(gao)度(du)關註(zhu)真空系(xi)統(tong),定(ding)期記(ji)錄(lu)系統(tong)真空和槍真空數值,或(huo)是(shi)打(da)開(kai)真空監(jian)控(kong)器(Gun Monitor)實時(shi)監(jian)控(kong)真空值。對(dui)於ULTRA PLUS掃(sao)描(miao)電子顯微鏡(jing),需(xu)保證系統(tong)真空值不(bu)小(xiao)於5.0×10-4Pa,槍(qiang)真空不(bu)低於1.0×10-7Pa。若(ruo)真空值低於正(zheng)常狀(zhuang)態(tai)需(xu)進行必要(yao)的檢(jian)查和維護保養,如(ru)檢(jian)查各真空系(xi)統(tong)部件或(huo)進(jin)行烘烤(kao)操作(zuo),具(ju)體方(fang)法如(ru)下:
(1)觀(guan)察(cha)真空裝置的啟(qi)動(dong)順(shun)序及(ji)啟(qi)動(dong)時間(jian)。ULTRA PLUS掃(sao)描(miao)電子顯微鏡(jing)真空的啟(qi)動(dong)順(shun)序為(wei)機械泵、潘寧(ning)規、離(li)子泵。壹般換(huan)試樣(yang)抽真空時(shi)間(jian)為3min。如(ru)時(shi)間(jian)過長,需(xu)檢(jian)查真空裝置是否為異(yi)常啟(qi)動(dong)情(qing)況(kuang)。
(2)判(pan)斷(duan)分(fen)子泵前級(ji)泵的工作(zuo)狀態(tai)。定(ding)期查看(kan)分子泵的功率(lv)狀(zhuang)態(tai),操作(zuo)方法為:打(da)開(kai)分子泵控(kong)制(zhi)器,查看(kan)分子泵功率(lv),若(ruo)小於10W,則(ze)分(fen)子泵前級(ji)泵(機械幹(gan)泵)無(wu)過多(duo)附加(jia)阻(zu)力,為(wei)正(zheng)常狀(zhuang)態(tai);否則,說明前級(ji)泵存在過多(duo)負(fu)載(zai)。
(3)機械幹(gan)泵的維(wei)護(hu)。機械幹(gan)泵中密(mi)封(feng)圈(quan)為(wei)易耗品,隨著(zhe)機械摩(mo)擦(ca)時間(jian)的增加(jia),密封(feng)圈(quan)變小(xiao),給(gei)分子泵帶來過多(duo)負(fu)載(zai),抽真空時(shi)間(jian)變長。壹般情況(kuang)下,機械幹(gan)泵的維(wei)護(hu)需(xu)在1~2a(年(nian))內進行(xing),即(ji)更(geng)換(huan)密封(feng)圈。
(4)若(ruo)以(yi)上(shang)問(wen)題均(jun)可(ke)排除,則可(ke)考慮(lv)進行(xing)烘烤(kao)操作(zuo),以提高(gao)真空度(du)。
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