二(er)手 日立(li) S-4800冷(leng)場(chang)發(fa)射電鏡(jing)觀(guan)察和(he)檢(jian)測(ce)體(ti)相及納(na)米結構的(de)固(gu)態無(wu)機(ji)材(cai)料（非(fei)磁性）等(deng)表(biao)面形(xing)貌和(he)組成(cheng)

二(er)手 日立(li) S-4700 冷(leng)場(chang)發(fa)射電鏡(jing)SEM+EDX可(ke)以觀(guan)察和(he)檢(jian)測(ce)非(fei)均(jun)相有(you)機、無(wu)機(ji)材(cai)料，及(ji)這(zhe)些材(cai)料在納(na)米、微米級(ji)樣品的(de)表面特征(zheng)。該儀器(qi)廣泛(fan)應(ying)用於金(jin)屬材(cai)料、高(gao)分(fen)子材(cai)料、半(ban)導體(ti)材(cai)料、化(hua)工(gong)原(yuan)料、地(di)礦(kuang)物(wu)品(pin)、寶(bao)石文物(wu)等(deng)微觀(guan)形貌的(de)研究及公安刑偵的(de)物證分析(xi)。能譜(pu)附件(jian)可對(dui)樣(yang)品進(jin)行(xing)微區成(cheng)分(fen)分(fen)析(xi)。

二(er)手 日立(li) SU-8010 冷(leng)場(chang)發(fa)射電鏡(jing)真(zhen)空(kong)系(xi)統采用分(fen)子泵和(he)離(li)子泵，抽真(zhen)空(kong)速度快(kuai)，設(she)備(bei)的(de)真(zhen)空(kong)度高(gao)達(da)10-8Torr。該(gai)設(she)備(bei)在高(gao)倍(bei)模(mo)式下(xia)放大(da)倍數(shu)100X～300,000 X，在低倍模(mo)式下(xia)放大(da)倍數(shu)20X～2000；二(er)次電子像的(de)分辨率(lv)在加(jia)速電壓15KV時(shi)達(da)到(dao)1.0nm，在加(jia)速電壓1KV時(shi)達(da)到(dao)10 nm；最(zui)大的(de)樣品尺寸是10mm。

二(er)手 日本電子 場(chang)發(fa)射電鏡(jing)SEM+EDX:場(chang)發(fa)射掃描(miao)電(dian)子顯(xian)微鏡(jing)，廣(guang)泛(fan)用(yong)於生物學、醫學、金(jin)屬材(cai)料、高(gao)分(fen)子材(cai)料、化(hua)工(gong)原(yuan)料、地(di)質(zhi)礦物(wu)、商(shang)品(pin)檢驗、產品(pin)生(sheng)產質(zhi)量控(kong)制(zhi)、寶石鑒(jian)定(ding)、考古和(he)文物(wu)鑒(jian)定(ding)及(ji)公安刑偵物(wu)證分析(xi)。可以觀(guan)察和(he)檢(jian)測(ce)非(fei)均(jun)相有(you)機材(cai)料、無(wu)機(ji)材(cai)料及(ji)在上(shang)述(shu)微米、納(na)米級(ji)樣品的(de)表面特征(zheng).

二(er)手 日本電子 JSM-7610F plus場(chang)發(fa)射電鏡(jing) ‌是壹種(zhong)優良(liang)的(de)電子顯(xian)微鏡(jing)，其(qi)核(he)心(xin)原(yuan)理(li)基(ji)於場(chang)發(fa)射電子源和(he)電(dian)子光(guang)學系(xi)統。場(chang)發(fa)射電鏡(jing)利(li)用強(qiang)電場(chang)作用(yong)，使得電子通過(guo)量(liang)子隧道(dao)效應(ying)逸出，形(xing)成(cheng)高(gao)亮(liang)度、高(gao)相幹性且能量(liang)分散(san)小的(de)電子束(shu)。這(zhe)種電子源相比傳統的(de)熱發(fa)射電子源，具(ju)有(you)更高(gao)的(de)亮(liang)度和(he)更(geng)小的(de)電子束(shu)直徑(jing)，從而實(shi)現(xian)更(geng)高(gao)的(de)分辨率(lv)。

二(er)手FIB+雙束(shu)FIB+場(chang)發(fa)射電鏡(jing)在高(gao)科(ke)技(ji)領域(yu)，掃描(miao)電(dian)鏡(jing)（SEM）是揭示(shi)材(cai)料微觀(guan)世界的(de)重要工(gong)具(ju)。美(mei)國FEI公司(si)和(he)賽(sai)默(mo)飛(fei)（Thermo Fisher Scientific）作為(wei)電(dian)鏡(jing)技(ji)術(shu)的(de)企業，其產品(pin)在全球(qiu)範(fan)圍(wei)內被廣(guang)泛使用。淮(huai)安富(fu)匯電子有(you)限公司(si)，作(zuo)為(wei)專(zhuan)業的(de)第三(san)方(fang)供應(ying)商，現(xian)提(ti)供現(xian)貨供應(ying)的(de)美(mei)國FEI/賽(sai)默(mo)飛(fei)掃描(miao)電(dian)鏡(jing)。

二(er)手SEM+EDX場(chang)發(fa)射電鏡(jing):超(chao)高(gao)分(fen)辨(bian)率(lv)：場(chang)發(fa)射掃描(miao)電(dian)鏡(jing)，最(zui)大(da)可(ke)放大100萬倍，提(ti)供超(chao)高(gao)清(qing)晰(xi)度的(de)圖(tu)像(xiang)。多(duo)功(gong)能探(tan)頭(tou)：配備(bei)SE（二(er)次電子）、BSE（背(bei)散射）、EDS（能譜(pu)）和(he)STEM（掃(sao)描(miao)透(tou)射）探(tan)頭(tou)，能夠(gou)實現(xian)表(biao)面形(xing)貌觀察和(he)成(cheng)分(fen)分(fen)析(xi)。

sigma500 二(er)手蔡(cai)司(si)場(chang)發(fa)射電鏡(jing)是蔡(cai)司(si)公司(si)推(tui)出的(de)高(gao)性能設(she)備(bei)，它采用成(cheng)熟的(de)GEMINI光(guang)學系(xi)統設計，分辨(bian)率(lv)超(chao)過(guo)0.8nm，能提(ti)供優(you)秀(xiu)分(fen)辨率(lv)和(he)分(fen)析(xi)性能的(de)科研平臺(tai)。這(zhe)款(kuan)設(she)備(bei)專(zhuan)註(zhu)於(yu)EDS幾(ji)何(he)學設(she)計，可以獲(huo)取分(fen)析(xi)性能，而且有(you)多(duo)種(zhong)探(tan)測(ce)器(qi)選擇，可以精準(zhun)匹(pi)配您的(de)應(ying)用程序，獲(huo)取微小粒子、表面(mian)、納(na)米結構等(deng)多(duo)種(zhong)圖(tu)像(xiang)信(xin)息

二(er)手日立(li)SU-8010場(chang)發(fa)射電鏡(jing)包(bao)括(kuo)SU-8010主(zhu)機和(he)E-1045噴(pen)鉑噴(pen)碳裝(zhuang)置，並(bing)配備(bei)有(you)EDAX X射線能譜(pu)儀。加(jia)速電壓為(wei)15kV時(shi)，分辨(bian)率(lv)為(wei)1.0nm，加(jia)速電壓為(wei)1kV時(shi)，分辨(bian)率(lv)為(wei)1.3nm。

二(er)手HITACHI-SU8010高(gao)分(fen)辨(bian)場(chang)發(fa)射掃描(miao)電(dian)鏡(jing)場(chang)發(fa)射掃描(miao)電(dian)鏡(jing)可(ke)用(yong)於(yu)材(cai)料分(fen)析(xi)和(he)研(yan)究(jiu)，特(te)別(bie)是材(cai)料斷(duan)口分(fen)析(xi)、微區成(cheng)分(fen)分(fen)析(xi)、各種(zhong)鍍(du)膜表面形(xing)貌分析(xi)、層厚測(ce)量(liang)和(he)顯(xian)微組織形(xing)貌及納(na)米材(cai)料分(fen)析(xi)等(deng)。