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- 日(ri)本島(dao)津(jin)
- LCMS 9030
- ROHS檢(jian)測(ce)儀出租(zu)，分析(xi)儀如(ru)何租(zu)賃(lin)
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- rohs儀
- 進(jin)口(kou)光(guang)電(dian)直讀光(guang)譜(pu)儀
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- 電(dian)感耦合等離子(zi)體(ti)質譜(pu)儀ICP-MS
- 電(dian)感耦合等離子(zi)體(ti)質譜(pu)儀ICPMS
- HPLC高(gao)效(xiao)液相色譜(pu)檢(jian)測(ce)儀
- 重(zhong)金(jin)屬檢(jian)測(ce)原(yuan)子(zi)吸收(shou)分光(guang)光(guang)度計(ji)
- 微焦點X射線無損(sun)透(tou)視(shi)儀SMX-1000L/1000puls
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- 氣(qi)相(xiang)色譜(pu)質譜(pu)聯(lian)用儀GCMS
- 原子(zi)吸收(shou)分光(guang)光(guang)度計(ji)
- 紫外分光(guang)光(guang)度計(ji)
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- ROHS檢(jian)測(ce)儀出租(zu)
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- 二手(shou)ROHS檢(jian)測(ce)儀器(qi)
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- 日(ri)本電(dian)子-掃(sao)面電(dian)鏡(jing)系(xi)列(lie)
- 沃特(te)世(shi)
- 進(jin)口(kou)氣(qi)相(xiang)色譜(pu)儀GC-2018
- 進(jin)口(kou)氣(qi)相(xiang)色譜(pu)質譜(pu)聯(lian)用儀GCMS
- 串聯(lian)四(si)極(ji)桿(gan)（三重(zhong)四(si)極(ji)桿(gan)）液相色譜(pu)質譜(pu)聯(lian)用儀
- 沃特(te)世(shi)液相色譜(pu)質譜(pu)聯(lian)用儀LCMS
- 沃特(te)世(shi)高(gao)效(xiao)液相色譜(pu)檢(jian)測(ce)儀
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- 粒度(du)分析(xi)儀
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- 島津(jin)液相色譜(pu)出(chu)租(zu)出(chu)售
- 出租島津(jin)EDX-LE
- edx-720/GP/LE出(chu)租(zu)租賃(lin)
- 氣(qi)相(xiang)色譜(pu)出(chu)租(zu)，色(se)譜(pu)儀租賃(lin)
- 檢(jian)測(ce)設備出(chu)租，分析(xi)儀器(qi)租(zu)賃(lin)
- xrf出租，xrf檢(jian)測(ce)儀租賃(lin)
- 實驗(yan)室儀器(qi)出(chu)租，分析(xi)儀器(qi)租(zu)賃(lin)
- ROHS儀出租(zu)，ROHS檢(jian)測(ce)儀租賃(lin)
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- 高(gao)分辨(bian)質譜(pu)儀 LC-MSMS
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- 二手(shou)ICP重(zhong)金(jin)屬檢(jian)測(ce)儀
- PE（二手(shou)）ICP光(guang)譜(pu)儀
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- 美(mei)國pe二手(shou)dma分析(xi)儀
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- 二手(shou)dsc tga同步熱(re)分析(xi)儀
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- 供(gong)應(ying)TA二手(shou)DSC-Q20
- 二手(shou)TGA DSC同步熱(re)分析(xi)儀
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- 二手(shou)電(dian)鏡(jing)，二手(shou)SEM
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技(ji)術文(wen)章首頁(ye) > 技(ji)術文(wen)章 >ICP-MS 點火(huo)不(bu)成(cheng)功(gong)處理(li)方(fang)式(shi)
ICP-MS 點火(huo)不(bu)成(cheng)功(gong)處理(li)方(fang)式(shi)
點擊次數：537 更(geng)新時間：2025-11-25
ICP-MS（電(dian)感耦合等離子(zi)體(ti)質譜(pu)儀）點火(huo)失敗(bai)是常見故障，需按 “安(an)全(quan)排(pai)查→基(ji)礎條(tiao)件(jian)驗(yan)證→逐步定位(wei)核心問(wen)題" 的邏輯處理(li)，避(bi)免(mian)盲目(mu)操(cao)作(zuo)損壞(huai)儀器(qi)。以下(xia)是(shi)系(xi)統的排(pai)查與(yu)解決步驟，覆(fu)蓋主(zhu)流(liu)品(pin)牌（安(an)捷(jie)倫、賽默(mo)飛(fei)、珀(po)金埃(ai)爾(er)默(mo)等）的(de)共(gong)性問(wen)題(ti)：
壹、點火(huo)前(qian)必(bi)做：安(an)全(quan)與基礎條件(jian)檢(jian)查（優(you)先(xian)排(pai)除致(zhi)命問(wen)題(ti)）
點火(huo)失敗(bai)首先(xian)需確(que)認(ren)儀器(qi)滿(man)足(zu) “點火(huo)前(qian)提(ti)"，避免(mian)因基(ji)礎條件(jian)缺(que)失導(dao)致(zhi)無效(xiao)排(pai)查：
1. 氣(qi)體(ti)供(gong)應(ying)：核心中(zhong)的核心（90% 點火(huo)失敗(bai)與氣(qi)體(ti)相關）
ICP-MS 點火(huo)依(yi)賴等離子(zi)氣(qi)（Ar）、輔助氣(qi)（Ar）、載(zai)氣(qi)（Ar） ，需滿足(zu)：
氣(qi)體(ti)純度：必(bi)須使用 ≥99.999%（5N）的(de)高(gao)純氬氣(qi)，雜質（O₂、H₂O、N₂）會(hui)導(dao)致(zhi)點火(huo)困(kun)難或(huo)等離子(zi)體(ti)熄(xi)滅(mie)；若(ruo)近(jin)期更(geng)換(huan)氣(qi)瓶，需確(que)認(ren)氣(qi)瓶標(biao)簽(qian)正(zheng)確(que)（避(bi)免(mian)誤換(huan)氮氣(qi) / 空氣(qi)），且(qie)新氣(qi)瓶需先(xian)排(pai)空閥口(kou)雜質（開閥(fa) 3~5 秒後(hou)關閉(bi)再連接）。
壓(ya)力與(yu)流(liu)量(liang)：
1：等離子(zi)氣(qi)（Plasma Gas）：常(chang)規流(liu)量(liang) 15~18 L/min（不同儀器(qi)略(lve)有(you)差(cha)異(yi)），氣(qi)瓶出(chu)口(kou)壓(ya)力需穩定(ding)在(zai) 0.5~0.8 MPa（減(jian)壓(ya)閥壓(ya)力），若(ruo)壓(ya)力低(di)於(yu) 0.3 MPa 或(huo)流(liu)量(liang)波動(dong)＞0.5 L/min，需更(geng)換(huan)氣(qi)瓶或(huo)檢(jian)查減(jian)壓(ya)閥是(shi)否故(gu)障。
2：輔助氣(qi)（Auxiliary Gas）：流(liu)量(liang) 0.8~1.2 L/min，流(liu)量(liang)為 0 或(huo)過低(di)會(hui)導(dao)致(zhi)等離子(zi)體(ti)無法維持，過高(gao)則會(hui)吹(chui)散電(dian)弧。
3：載(zai)氣(qi)（Carrier Gas）：流(liu)量(liang) 0.8~1.2 L/min（點火(huo)時(shi)可(ke)適(shi)當(dang)調高(gao)至 1.0~1.5 L/min 輔助點火(huo)），載(zai)氣(qi)中(zhong)斷(duan)會(hui)導(dao)致(zhi)等離子(zi)體(ti)無法點燃(ran)。
氣(qi)路(lu)泄(xie)漏：用肥(fei)皂(zao)水(shui)塗(tu)抹(mo)氣(qi)路(lu)接頭(tou)（氣(qi)瓶出(chu)口(kou)、減(jian)壓(ya)閥、儀器(qi)進(jin)氣(qi)口(kou)、管(guan)路(lu)連(lian)接處），若(ruo)冒(mao)泡(pao)則說明(ming)泄(xie)漏，需擰緊(jin)接頭(tou)或(huo)更(geng)換(huan)密(mi)封(feng)圈(quan)（PTFE 材(cai)質常見老化）。
2. 電(dian)源與(yu)硬件(jian)安(an)全(quan)
確(que)認(ren)儀器(qi)主(zhu)電(dian)源、射頻（RF）電(dian)源、冷卻系(xi)統電(dian)源均(jun)已(yi)接通(tong)，無跳(tiao)閘或(huo)斷(duan)電(dian)情況(kuang)。
檢(jian)查冷卻系(xi)統：循(xun)環(huan)水（或(huo)風(feng)冷）需正(zheng)常(chang)工(gong)作(zuo) —— 水冷機水位(wei)在刻(ke)度線之間(jian)、水(shui)溫(wen)穩定在(zai) 20~25℃，若(ruo)水(shui)溫(wen)過高(gao)（＞30℃）或(huo)水流(liu)報警(jing)，需排(pai)查水(shui)冷機泵(beng)、管(guan)路(lu)堵(du)塞(sai)（水(shui)垢(gou) / 雜質）；風(feng)冷儀器(qi)需確(que)認(ren)風(feng)扇轉(zhuan)動(dong)正(zheng)常(chang)，散熱(re)口(kou)無遮(zhe)擋。
排(pai)查安(an)全(quan)聯鎖(suo)：儀器(qi)門(men)（炬(ju)室門、采樣(yang)錐 / 截(jie)取錐門）需關閉(bi)（聯鎖(suo)開(kai)關觸(chu)發(fa)），若(ruo)門(men)未(wei)關嚴或(huo)聯鎖(suo)開(kai)關故(gu)障（如(ru)接觸不良(liang)），儀器(qi)會(hui)禁止(zhi)點火(huo)（安(an)全(quan)保護機制）。
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