所謂的(de)微焦(jiao)點X射(she)線機(ji)是(shi)焦(jiao)點尺寸可(ke)以達(da)到(dao)幾個(ge)微米(mi)，並(bing)且能夠(gou)在(zai)0～225kV或更(geng)高恒(heng)電(dian)壓模式下(xia)，以壹(yi)定(ding)的(de)功率(通常(chang)最高為(wei)320W)連續工作的(de)X射(she)線(xian)機(ji)。 微焦(jiao)點X射(she)線機(ji)的(de)焦(jiao)點尺寸通常(chang)可(ke)以連續可(ke)調(tiao)，從(cong)幾(ji)微米(mi)直到(dao)0.2毫米(mi)或(huo)更(geng)高。
 

　　與(yu)常(chang)規(gui)X射線(xian)管相(xiang)同，微焦(jiao)點X射(she)線管(guan)的(de)陽(yang)極(ji)也(ye)是(shi)用循(xun)環(huan)油或(huo)水(shui)來(lai)冷卻(que)。 與(yu)常(chang)規(gui)X射線(xian)機(ji)不同的(de)是(shi)，用於(yu)無損(sun)檢(jian)測(ce)的(de)微焦(jiao)點X射(she)線管(guan)是(shi)用真空(kong)泵來(lai)維持X射線(xian)管(guan)內(nei)的(de)真(zhen)空(kong)度(約為(wei)10-7)。
 

　　微焦(jiao)點X射(she)線管(guan)可(ke)以很方便(bian)的(de)打(da)開(kai)(即(ji)開(kai)放式(shi)或(huo)稱為開(kai)管)，用來(lai)更(geng)換(huan)不同的(de)靶(ba)材以產(chan)生不(bu)同(tong)的(de)X射(she)線(xian)頻(pin)譜(pu);更(geng)換(huan)不同形狀(zhuang)及(ji)大小的(de)X射(she)線(xian)窗(chuang)口(kou);以及(ji)更(geng)換(huan)陽極的(de)類(lei)型… 如(ru)換(huan)上(shang)各種(zhong)直徑(jing)和(he)長度的(de)棒(bang)陽(yang)極(ji)，以滿(man)足不(bu)同(tong)檢(jian)測(ce)任(ren)務(wu)的(de)需要(yao)。
 

　　這(zhe)些陽(yang)極(ji)棒(bang)的(de)長度可(ke)達1500毫(hao)米(mi)，直徑(jing)可(ke)從(cong)18毫(hao)米(mi)壹(yi)直小(xiao)到(dao)4毫米(mi)。使(shi)用如此(ci)小的(de)棒(bang)陽(yang)極(ji)，我們可(ke)以用單壁(bi)內(nei)透(tou)照方式(shi)，以未(wei)有的(de)缺(que)陷(xian)檢(jian)測(ce)靈(ling)敏度進(jin)行射(she)線(xian)檢(jian)測(ce)。
 

　　需要(yao)考(kao)慮的(de)是(shi)X射(she)線(xian)束(shu)視(shi)場直徑(jing)或(huo)稱錐束(shu)角(jiao)。 進(jin)行微焦(jiao)點X射(she)線檢(jian)測(ce)，當焦(jiao)距(ju)很近(jin)時，錐束(shu)角(jiao)或視場範(fan)圍非(fei)常(chang)重(zhong)要。例(li)如(ru)，25°錐(zhui)角(jiao)的(de)微焦(jiao)點X射(she)線機(ji)的(de)曝(pu)光(guang)次(ci)數(shu)要(yao)小於(yu)15°錐(zhui)角(jiao)的(de)微焦(jiao)點X射(she)線機(ji)在檢測(ce)相(xiang)同範(fan)圍時的(de)曝(pu)光(guang)次(ci)數(shu)。
 

　　另壹(yi)個(ge)需要(yao)考(kao)慮的(de)是(shi)焦(jiao)點到(dao)X射線(xian)管窗(chuang)口(kou)外(wai)表面(mian)的(de)距(ju)離(li)，它決(jue)定(ding)了被檢樣品(pin)到(dao)焦點的(de)最(zui)小(xiao)距(ju)離(li)。 這(zhe)壹(yi)參(can)數(shu)的(de)重(zhong)要性(xing)在(zai)於(yu)它(ta)決(jue)定(ding)了壹(yi)個(ge)微焦(jiao)點系統可(ke)能達(da)到(dao)的(de)最(zui)大(da)放(fang)大(da)倍(bei)數(shu)。
 

　　由(you)於(yu)防(fang)護(hu)設(she)施(shi)空(kong)間的(de)局限(xian)以及(ji)射線的(de)衰減(jian)與(yu)距(ju)離(li)的(de)平(ping)方成(cheng)反(fan)比(I/R2 )，我們無法隨意拉長膠片(pian)或探(tan)測(ce)器到(dao)射線(xian)源的(de)距(ju)離(li)以增大放(fang)大倍(bei)數(shu)。
 

　　在(zai)進(jin)行微焦(jiao)點X射(she)線檢(jian)測(ce)時有壹(yi)個(ge)與(yu)常(chang)規(gui)X射線(xian)檢測(ce)很大(da)的(de)不(bu)同(tong)：我們通常(chang)不需要(yao)考(kao)慮圖像(xiang)半影的(de)大(da)小(xiao)，即(ji)通常(chang)不考(kao)慮幾何(he)不(bu)清(qing)晰度的(de)影響(xiang)。
 

　　原因是(shi)當(dang)焦(jiao)點尺寸足夠(gou)小(xiao)時，半影可(ke)以忽(hu)略(lve)不計。 因此(ci)我們可(ke)以在(zai)X射(she)線視(shi)場可(ke)接(jie)受的(de)情況(kuang)下(xia)，盡(jin)可(ke)能減(jian)小被檢樣品(pin)到(dao)焦點的(de)距(ju)離(li)。